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半导体设备行业深度解析:下游扩产与国产化双轮驱动,把握2026年投资新机遇

   日期:2026-01-09 02:10:44     来源:网络整理    作者:本站编辑    评论:0    
半导体设备行业深度解析:下游扩产与国产化双轮驱动,把握2026年投资新机遇

本号内容来自机构调研信息,只分享逻辑,个股走势请自行斟酌

以下内容根据电话会议录音转换而来,错别字难免,有时录音不清晰,有时软件转换错误,请见谅。

核心逻辑

1. 下游资本开支强劲上行,设备需求确定性强

  • 先进逻辑与存储双轮驱动
    :2026年,以中芯国际、华虹为代表的先进逻辑厂,以及长江存储、长鑫存储为代表的存储厂,均规划了大规模的产能扩张。预计扩产量至少翻倍,中芯国际甚至有望达到两倍增长。
  • 单位投资额提升
    :随着制程节点向5nm/3nm及存储层数向200层以上演进,单万片晶圆的设备投资额大幅攀升,进一步推高设备市场总量。
  • 长期空间广阔
    :国内头部晶圆厂(中芯、华虹)及存储厂(长存、长鑫)的全球市占率仍较低(逻辑代工约5-6%,存储约5%),相比台积电、三星等国际龙头,产能差距巨大,长期扩产逻辑清晰。

2. 国产化率加速提升,政策与市场双重助力

  • 外部压力倒逼
    :美国、荷兰、日本等国的设备出口管制持续收紧,加速了国内晶圆厂供应链的国产替代进程。
  • 内部政策强力支持
    :国家大基金三期规模超3000亿元,创历史新高,其中“国投基金”(规模约700亿元)明确重点投向高端半导体设备领域,为国产设备商提供资金与订单保障。
  • 国产化率空间巨大
    :2025年整体设备国产化率预计仅约22%。除刻蚀、清洗等环节国产化率较高(约50-60%)外,量检测、涂胶显影、离子注入等关键“卡脖子”环节国产化率仍不足10%,提升空间广阔。

3. 设备公司差异化竞争,格局并非“内卷”

  • 市场担忧的刻蚀、薄膜沉积等环节,国内设备商已形成差异化竞争。例如,刻蚀设备除主流CCP/ICP外,还有高深宽比刻蚀、高选择比刻蚀等新兴细分赛道;薄膜沉积在不同材料(介质、金属等)和工艺(PECVD、ALD、PVD等)上各有专长。当前主要矛盾仍是替代海外份额,而非国内厂商间的低效竞争。

4. AI算力崛起,带动测试与先进封装设备需求

  • 国产AI芯片设计公司(Fabless)的崛起,直接拉动了对测试机、分选机等后道设备的需求。
  • 先进封装(如3D封装)为提升芯片性能的关键路径,引入了更多前道图形化工序,带来新的设备投资机会。

重点推荐个股梳理

基于以上逻辑,建议从两大主线把握投资机会:

主线一:前道晶圆制造设备 核心推荐受益于下游存储及逻辑厂大规模扩产、且国产化进程较快的平台型及细分龙头公司。

  • 北方华创
    :平台化布局最全,产品线覆盖除光刻外几乎所有前道环节,对标国际龙头应用材料。订单增长确定性强,远期目标千亿体量。
  • 中微公司
    :刻蚀设备龙头,存储客户收入占比高(约60-70%),同时通过收购等向平台化(量检测、电镀、CMP)延伸。
  • 拓荆科技
    :薄膜沉积设备核心厂商,存储客户占比高(约60-70%),并布局先进封装领域。
  • 微导纳米
    :ALD设备领先企业,存储客户占比极高(约80%),订单弹性大。
  • 迈为股份
    :在刻蚀与薄膜沉积设备均有突破,存储客户占比约60-70%。
  • 芯源微
    :涂胶显影设备(Track)国内龙头,虽当前存储敞口不高,但先进机台验证进展值得关注,有望打开新空间。

主线二:国产AI算力相关设备 重点推荐受益于AI芯片需求爆发及先进封装发展的测试与封装设备公司。

  • 华峰测控
    :半导体测试机龙头,正向高端SoC及存储测试机突破,将充分受益于AI芯片测试需求。
  • 长川科技
    :测试与分选设备供应商,同样受益于测试市场景气度提升及国产化。
  • (附:先进封装链)
     此外,盛美上海芯源微新益昌等公司在3D封装所需的薄膜沉积、涂胶显影、固晶等设备环节亦有布局。

总结:2026年半导体设备行业将迎来下游资本开支上行与国产化率提升的“双击”。投资应聚焦于存储与逻辑扩产核心受益标的以及AI算力驱动的测试/封装设备龙头,同时关注在低国产化率关键环节取得突破的公司。

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