
政策支持 : 国 家 发 改 委 等 五 部 门 发 布 2 0 2 6 年 集 成 电 路 税 收 优 惠 政 策
国产替代突破 : 半 导 体 设 备 国 产 化 率 提 升 至 3 5 % ( 2 0 2 6 Q 1 ) , 较 2 0 2 5 年 提 升 8 个 百 分 点
外部催化 : 美 国 《 M A T C H 法 案 》 全 面 禁 止 D U V 光 刻 机 对 华 出 口 , 倒 逼 国 产 替 代 加 速
关键目标 : 2 0 2 6 年 突 破 1 4 n m 制 程 设 备 、 先 进 存 储 芯 片 等 关 键 技 术
市场格局 : 中 微 公 司 ( 刻 蚀 设 备 ) 、 北 方 华 创 ( 综 合 设 备 ) 、 盛 美 上 海 ( 清 洗 设 备 ) 等 龙 头 加 速 追 赶
技术趋势 : 先 进 封 装 ( C h i p l e t ) 、 H B M 存 储 、 第 三 代 半 导 体 成 为 新 增 长 点
人才培养 : 集 成 电 路 科 学 与 工 程 已 升 为 一 级 学 科 , 产 学 研 协 同 加 速
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