一.光刻机行业发展现状
1.全球光刻机市场
近年来，全球光刻机市场持续增长。根据中研普华研究院撰写的<<2025-2029年光刻机行业市场深度分析及发展规划咨询综合研究报告>>显示，2025年全球光刻机市场规模达到196亿美元，占整个半导体设备市场的23%。
全球光刻机市场竞争格局呈现出高度集中的态势。ASML、Nikon和Canon是市场上的主要竞争者。其中，ASML凭借其领先的技术和市场份额，占据主导地位。
2025年，ASML在全球光刻机市场的占比高达82.1%，特别是在90nm以下节点的高端光刻机市场，ASML几乎垄断了市场。Nikon和Canon则主要在中低端市场展开竞争，其市场份额相对较小。
2.中国光刻机市场
中国作为全球最大的半导体市场，对光刻机的需求持续增长。然而，国内光刻机产业起步较晚，与国际先进水平相比仍存在一定差距。目前，国内光刻机产品主要集中在90nm至28nm工艺节点，而在高端光刻机领域，如极紫外(EUV)光刻机，仍需依赖进口。
1.极紫外光源的研发
当前EUV光源的波长为13.5nm，但更短的波长如7nm、5nm甚至3nm的光源是更理想的选择。未来的研究方向是开发出更短波长的稳定光源，并提高其亮度。这将有助于进一步提升光刻机的分辨率和生产效率。
2.高精度掩膜制造技术
掩膜是光刻工艺中的重要组成部分，需要具有高精度的制造技术。未来的研究方向是开发出更高精度的掩膜制造技术，以满足更精细的制程要求。这将有助于提升光刻机的制造精度和良品率。
3.非光刻技术
除了光刻技术外，非光刻技术也成为了研究热点。例如，电子束光刻(EBL)、离子束光刻(IBL)等具有更高的分辨率和更好的适应性。未来的研究方向是开发出更高效、更低成本的非光刻技术，以丰富半导体制造工艺的选择。
4.AI和数字化应用
人工智能和数字化应用将在光刻工艺中发挥越来越重要的作用。未来研究方向是将AI和数字化技术应用于光刻机的控制系统、工艺优化等方面，以提高生产效率和降低成本。这将有助于提升光刻机的智能化水平和市场竞争力。
公司与中国科学技术大学合作研究光敏聚酰亚胺（PSPI）光刻胶等。
子公司上海普利特半导体材料有限公司持股25%的苏州理硕科技有限公司是一家从事平板显示器和半导体芯片用光刻胶及光刻工艺材料研发和生产的高科技企业。
公司精密陶瓷零部件是采用氧化铝、氮化铝等先进陶瓷经精密加工后制备的半导体设备用核心零部件，具有高强度、耐腐蚀、高精度等优异性能，应用于刻蚀机、涂胶显影机、光刻机、离子注入机等半导体关键设备中。
子公司宁波南大光电负责组织实施“ArF光刻胶开发和产业化项目”，研发的产品成为国内通过产品验证的第一只国产ArF光刻胶。
公司全资子公司彤程电子受让科华微电子33.70%的股权，科华微电子是集光刻胶研发、生产、检测、销售于一体的中外合资企业。
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