2024九峰山论坛暨中国国际化合物半导体产业博览会（简称“JFSC＆CSE”）将于2024年4月8-11日，在武汉光谷科技会展中心举办。
作为现代信息技术的基石，半导体产业的进步对国家的科技实力和经济竞争力具有深远影响。2024九峰山论坛暨中国国际化合物半导体产业博览会将以“聚势赋能 共赴未来”为主题，采用“前沿论坛+示范展示+技术与商贸交流”的形式，集结政府、全球化合物半导体产业的新质生产力与链主企业，协同业界领军人物、头部科研机构及科技金融机构代表，共同研讨行业前沿论题及第三代半导体技术的应用与发展，引领化合物半导体产业的可持续发展，加速驱动中国化合物半导体产业链的完善和升级。
Welcome！
JFSC&CSE 2024
为此，我们将为您提前提供丰富的展品预览信息，
记得收藏并且呼唤业内好友一起报名参观展会哦~
备注：展品介绍不分先后，仅供参考！
1.展品预览 | CSE国际化合物半导体产业博览会展品提前看Ⅰ
2.展品预览 | CSE国际化合物半导体产业博览会展品提前看Ⅱ
备注：点击展位布局图查看展商名单！
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山西烁科晶体有限公司
展位号：2T24号
山西烁科晶体有限公司作为一家从事第三代半导体碳化硅材料生产研发的高新技术企业，是中国电科集团“十二大创新平台”之一，山西省碳化硅材料工程研究中心和山西省碳化硅材料中试基地建设依托单位，是国家级专精特新“小巨人”企业、山西省第三代半导体产业链“链主”企业、山西省制造业单项冠军企业，山西省2022年度上市后备层企业。2018年度获得山西省优秀技术攻关团队，2019年公司作为配套单位获得“国家科技进步一等奖”。目前，公司已成为国内实现碳化硅衬底材料供应链自主创新的碳化硅材料供应商之一，并向着“成为国内卓越、世界一流的碳化硅材料供应商”的企业愿景不断迈进。
部分产品简介
1）4/6/8寸半绝缘型衬底：通过在半绝缘型碳化硅衬底上生长氮化镓外延层，制得碳化硅基氮化镓外延片，可进一步制成HEMT等微波射频器件，应用于信息通讯、无线电探测等领域。
2）4/6/8寸导电N型衬底：通过在导电型碳化硅衬底上生长碳化硅外延层，制得碳化硅同质外延片，可进一步制成肖特基二极管、MOSFET、IGBT等功率器件，应用在新能源汽车，轨道交通以及大功率输电变电等领域。
6英寸高纯半绝缘衬底
6英寸导电N型衬底
8英寸导电N型衬底
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武汉普赛斯仪表有限公司
展位号：3T34号
武汉普赛斯仪表有限公司以源表为核心产品，专注于半导体电性能测试设备的开发、生产与销售。聚焦第三代半导体领域高端测试设备的国产化，武汉普赛斯仪表坚持自主创新研发，积极打造对标进口、国内领先的实验与测试平台。掌握多项电性能测试核心专利技术，推出高精度台式数字源表、脉冲式源表、窄脉冲电流源、脉冲恒压源、集成插卡式源表、高精度的超大电流源、高精度脉冲大电流源、高精度高压电源、数据采集卡等系列产品，电流覆盖pA至kA，电压覆盖μV至kV。基于自主核心仪表产品，我司创新打造了半导体参数分析仪、功率器件静态参数测试系统、大功率激光器老化测试系统、miniLED测试系统、电流传感器测试系统等测试平台，以高效率、高精度、低成本为核心，实现市场应用的集成创新。
部分产品简介
1、S系列高精度台式源表
高至300V低至10pA，最大测试功率30w
●支持前后面板、2/4线以及GUARD保护
●全量程输出及测量精度可达0.03%
●标准的SCPI指令集，便于客户二次开发
●易搭建半导体电性能测试方案
●可用于测试半导体的电性能指标：I、V、R
2、SPA6100半导体参数分析仪
30μV-1200V 电压量程 | 1pA-100A 电流量程 |
直流/脉冲I-V测试 | C-V测试 | 精度0.03%
●在CV和IV测量之间快速切换而无需重新布线
●内置标准器件测试程序 、直接调用测试简便
●自动实时参数提取、数据绘图、分析函数
●可搭配探针台、温箱等测试
●提供灵活的夹具定制服务，兼容性强
●免费提供上位机软件及SCPI指令集
3、PMST功率器件静态参数测试系统
10kV高电压 | 600大电流（多模块并联）| nA级漏电流 |
μΩ级导通电阻 | 精度0.1%
●模块化设计，灵活配置
●内置专用矩阵开关，支持半桥、三相半桥的一键测试
●大电流输出响应快，无过冲
●高压测试支持恒压限流、恒流限压模式
●正向设计，提供灵活的夹具定制化服务
●支持交互式手动操作或结合探针台的自动操作
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上海邦芯半导体科技有限公司
展位号：2T52号
上海邦芯半导体科技有限公司成立于2020年，是一家专注于半导体设备研发的国产创新型设备厂商。自成立以来，邦芯在化合物芯片和硅基芯片制造设备上已研发了多款6/8/12寸去胶、刻蚀和薄膜沉积设备，并且已经在客户端实现了量产。邦芯半导体的产品具有自主知识产权，通过包括设备、工艺、客户支持在内的多个领域的专业知识，持续为客户提供高性价比的刻蚀和薄膜设备及应用，填补国内诸多领域空白。
部分产品简介
1、HongHu TSG 150W/200W
用于6/8寸GaN功率半导体工艺WCVD设备：
▷搭建在邦芯自主研发的HongHu多腔室集群真空传送平台，能够提供串行或并行的工艺处理；
▷工艺腔室采用均匀的流场设计，保证钨成膜速率和均匀性；
▷自主的加热盘设计，实现成膜速率和均匀性可调。
主要应用包括：
▷钨沉积工艺
2、HongHu Ivory 150W/200W
用于6/8寸化合物半导体加工工艺ICP刻蚀设备：
▷搭建在邦芯自主研发的HongHu多腔室集群真空传送平台，能够提供串行或并行的工艺处理；
▷该系统采用优化的ICP线圈设计，提供更高的刻蚀速率及更优的均匀性；
▷采用先进表面涂层，提高零部件的使用寿命，稳定的Particle性能和降低生产成本。
主要应用包括：
▷化合半导体GaN/SiC刻蚀工艺
▷化合物半导体钨回刻工艺
▷硅刻蚀工艺
▷金属刻蚀工艺
3、HongHu Coral 150D/200D
用于6/8寸化合物半导体加工工艺CCP刻蚀设备：
▷搭建在邦芯自主研发的HongHu多腔室集群真空传送平台，能够提供串行或并行的工艺处理；
▷独特的反应腔设计，保证介质膜刻蚀速率和均匀性；
▷采用先进表面涂层，提高零部件的使用寿命，稳定的Particle性能和降低生产成本，提升Uptime和MTBC。
主要应用包括：
▷化合半导体介质刻蚀工艺
▷0.11-0.35um制程集成电路介质刻蚀工艺
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至微半导体（上海）有限公司
展位号：2T42号
至纯集团至微半导体作为国内高端集成电路装备领域代表企业，以生产销售高端集成电路湿法制程装备为主业，重点发展单片和批次式清洗设备，广泛应用于集成电路制造（逻辑/记忆体/三维IC）、先进封装、微机电系统等领域。至微的8寸、12寸批次式设备已有数十台的安装实绩，并获得客户认可；12寸单片设备已有机台验收并投入量产，已接到重复订单，目前还有许多高阶制程（14/28nm）工艺应用验证中。
部分产品简介
▷▶产品名：12寸槽式清洗设备
产品特点：高生产能力；从Load到unload的传输能力可达到 600 片/小时；传送机构运行稳定；标准化独立模块，使设计、组装、检修更加方便；机台内装有破片检测系统水槽视觉检出系统可以检出破碎wafer，避免二次伤害。
▷▶产品名：12寸单片清洗设备
产品特点：占地面积小8英寸占地8.94 m，12英寸占地10.93m模块化设计，易于维护和设置；极好的稳定性和可靠性拥有高速传输系统和良好的腔体匹配;工艺时wafer表面温度监控，药液回收设计，可回收硫酸。
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上海先普气体技术有限公司
展位号：3T25号
先普自2004年成立以来，在充分掌握国际先进气体纯化核心技术的基础上，通过不断的研究创新，已获得六十项专利证书，自主开发了十几个系列上百种产品，纯度可提供9N、7N两种级别，其中压力范围从1.0MPa的常压到24MPa的高压，流量范围从几百毫升每分钟到上万立方米每小时。
先普的气体纯化产品既可以为晶体生长，外延，氧化，扩散，CVD，MOCVD，PECVD等众多半导体工艺设备配套提供超高纯的工艺气体；也可用于超高纯气体和电子气生产，低浓度标准气和混合气配制；以及用于纯化超高纯气体管道施工中TIG轨道焊机的氩气和验收吹扫的氮气；还可以应用于超微量水、氧分析仪，气相色谱仪（GC），常压离子质谱仪（APIMS）等各类气体分析仪器纯化载气或零点气。
基于不懈的技术创新，严格的品质管理和国内制造的成本优势，先普以实用的产品，专业的服务，合理的价格为客户提供高性价比的气体纯化解决方案。
部分产品简介
【产品系列】：9N气体纯化器
【产品介绍】：先普9N系列纯化产品采用国际最成熟的催化剂/吸附剂(Catalyst / Adsorber)和吸气剂(Getter)技术，分为POU终端纯化器、Getter纯化器和原位自动再生型纯化系统三大类，可用于纯化大宗气体(N2, Ar, He, H2, O2, CDA等)和特殊气体(氢化物气体, CO2等)，气体流量从1slm到20000Nm3/h，纯化后气体中H2O, O2, CO, CO2, H2, CH4, NMHC等分项杂质含量均小于1ppb。
【产品系列】：先普气体过滤器
【产品介绍】：先普以多年来为客户提供气体纯化与过滤解决方案的经验，应国内半导体产业国产化需求，推出0.003微米高精度气体过滤器，覆盖流量范围从30slm到10000Nm3/h。
【产品系列】：先普POU气体纯化器
【产品介绍】：先普POU高性能气体纯化器采用的是常温催化剂技术，通过化学反应和物理吸附相结合的方法在常温下将工艺气体(进气纯度5N)中的H2O, O2, CO, CO2, H2, NMHC等杂质去除到1ppb以下(7NP系列为5ppb以下)，并且在内表面电化学抛光的316L不锈钢罐体中内置了过滤精度为0.003微米的颗粒过滤器。
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深圳市路维光电股份有限公司
展位号：3T43号
深圳市路维光电股份有限公司于1997年成立，一直致力于掩膜版的研发、生产、销售，是微电子制造中转移图形的基准和蓝本。经过多年技术积累和创新，已实现180nm及以上节点半导体掩膜版量产，满足半导体芯片封装、半导体器件、先进指纹模组封装、高精度蓝宝石衬底（PSS）等产品应用。并取得150nm节点半导体掩膜版制造核心技术，同时可覆盖第三代半导体所需掩膜版技术，为我国半导体行业发展提供关键的上游材料国产化配套支持。
部分产品简介
①、半导体掩膜版
路维已实现180nm及以上节点半导体掩膜版量产，可以根据客户的需求提供多种特色的专业服务。
数据处理：4~8小时内提供JDV
交期：24~48 H交付1st /2nd Layer
特殊交期：加急版12~24 H交付1st Layer
②、平板显示用掩膜版：
中国首张G11掩膜版下线
路维光电生产的中国首条G11代掩膜版顺利下线，一举打破国外厂商在该领域的垄断，解决关键技术“卡脖子”难题，成为中国首家、世界第四家掌握G11掩膜版生产技术的企业，国内唯一一家可覆盖G2.5-G11全世代产线的本土掩膜版企业，可配套下游平板显示厂商所有世代产线。
同时，公司积极研发半色调(Half-tone)、灰阶(Gray-tone)掩膜版等高端掩膜版制造技术，先后研发并投产G8.5、G11 TFT-LCD半色调掩膜版，打破国外厂商在半色调掩膜版领域长期的技术垄断，对于推动我国平板显示行业和半导体行业关键材料的国产化进程、逐步实现进口替代具有重要意义。
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新阳硅密（上海）半导体技术有限公司
展位号：3T29号
新阳硅密（上海）半导体技术有限公司是中国半导体水平电镀设备与工艺一体的全内资企业。公司拥有强大的研发团队、国内完整的电镀实验室及验证设备、160余项自有专利保护等项目开发优势。公司已与国产龙头半导体材料公司、国内半导体产业引领巨头形成紧密的产业联盟，旨在为客户提供国产化材料、国产设备与工艺交付的一体化的半导体电镀设备平台，填补国内空白，实现国产自主可控，保障集成电路产业链安全。
部分产品简介
1、GSW平台
GSW平台单晶圆水平电镀系统具备投入小、机型体积迷你、灵活性高的优势，适用于快速的工艺研发以及小批量的生产，特别对于MEMS，射频，军工，化合物，材料验证，LED，光电，实验室或科研单位电镀工艺开发具有明显优势。
产品尺寸：涵盖4/6/8寸晶圆。
单电镀腔体配置可以支撑电镀工艺开发以及小批量生产（支持Cu，Ni，Au，SnAu，或SnAg）。
通过该设备平台可以使研发无缝转接至量产，快速达成工艺转移。自主开发的电场及流场控制及真空润湿／分段阳极／搅拌 / Spin&Lift阴极夹具设计让我们有信心与客户一起挑战更高难度的电镀工艺。
2、G3自动化平台
G3自动化平台独特的多电镀腔体平台为可适用于Cu/Ni/Au/SnAg等金属或金属叠层工艺规模生产。
支持晶圆尺寸：4/6/8/12寸晶圆
适用于：高端汽车电子、射频、Micro LED、SiC、MEMS、Photonics、6G、军工、特殊半导体、科研/学校等
3、G4平台
G4平台可为客户提供国产材料、国产设备一体化工艺交付。设备具备全自动化平台。独特的多电镀腔体平台可实现批量量产金属膜层电镀。
支持晶圆尺寸：12寸
适用于：先进封装，BEOL，2.5D/3D制程、OSAT等。
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苏州纳维科技有限公司
展位号：1T34号
苏州纳维科技有限公司创立于2007年，以中科院苏州纳米技术与纳米仿生研究所为技术依托，立足于设备的自主研发，专注于从事高质量，大尺寸氮化物材料的生长与产品开发，为产业界和研发机构提供各类氮化镓材料，目前公司拥有核心技术专利三十余项，是中国首家氮化镓衬底晶片供应商。
部分产品简介
▷▶苏州纳维科技有限公司所生长的氮化镓（GaN）单晶衬底是第三代半导体材料的典型代表，它具有禁带宽度大，击穿电场高，饱和电子漂移速度高等特点，在光电子、电力电子等领域具有重要的应用前景。
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CAMECA
展位号：A111号
自1929 年成立以来， CAMECA 就一直凭借其精密机械、光学和电子器件而享誉盛名。CAMECA 在法国成立之初是作为一家电影院投影机制造商。随后迅速发展成为科学仪器以及半导体制造行业的 in-fab / near-fab 计量解决方案的供应商，服务于国际科研领域。自 2 0 世 纪 5 0 年代推出电子探针显微分析仪（ EPMA ） 和 2 0 世 纪 6 0 年代推出二次离子质谱仪（ SIMS ）以来， CAMECA 一直是这些技术领域无可争议的全球领导者，同时在配套技术领域也实现了众多突破性创新，如低能电子激发 X 射线发射光谱仪（ LEXES ）和原子探针断层分析术（ APT) 。今天， CAMECA 在全球拥有 300 多名员工，在巴西、中国、中国台湾、德国、 印度、日本、韩国、俄罗斯、英国和美国设有分支机构，并建立了广泛的代理网络，确保为所有用户提供最佳支持。我们的使命是专注于仪器开发，在客户的专业表征领域为他们提供最高的分析性能。CAMECA认真贯彻 ISO 9001 质量体系认证，不仅严把技术关，也对产品设计、制造、安装和维修的方方面面实施严密监控。我们的工厂分别设于位于法国巴黎附近热纳维耶总部、位于美国威斯康星州麦迪逊的原子探针技术中心，均采用先进设施，实施洁净室生产、计算机网络、电子和离子光学模拟以及先进CAD的最佳实践。CAMECA是全球领先的电子仪器和机电设备制造商 AMETEK, Inc. 的业务部门，隶属于AMETEK材料分析部。
CAMECA 中国区共有员工 1 8 位。在不断进取、努力开拓市场的同时，也组建了强大的售后服务力量和应用专家团队，共同携手为您的仪器保驾护航。为优化响应时间， CAMECA 中国依托集团公司的平台，在上海自贸区设立备品备件仓库。上海，北京，武汉……，您都会看到CAMECA工程师的身影。未来，CAMECA 中国继续励精图治，奋发向上，立足中国，着眼未来，全力为您提供最佳微区分析解决方案和绝佳的售后服务。
部分产品简介
1、二次离子质谱仪 IMS 7F-Auto
多功能SIMS工具：高通量和全自动化的基准检测灵敏度
IMS 7f-Auto是我们获得成功的IMS xf二次离子质谱仪（SIMS）产品系列的最新型号。该仪器旨在提高高精度元素和同位素分析的易用性和生产率，已针对玻璃、金属、陶瓷、硅基，III-V和II-VI族化合物器件、散装物料、薄膜等一系列颇具挑战性的应用进行改良，可充分满足行业对高效器件开发和过程控制的要求。
2、二次离子质谱仪 IMS WF/SCU
适用于高级半导体应用的高性能低能量SIMS
IMS Wf和SC Ultra经专门设计，可充分满足高级半导体对动态SIMS测量日益增长的需求该仪器可提供大范围的冲击能量（100 eV到10 keV），不影响质量分辨率和一次离子束密度，可确保在高通量条件下为最具挑战性的应用提供无与伦比的分析性能：超浅能量和高能量注入物、超薄氮氧化物、高k金属栅极、硅锗掺杂层，Si:C:P结构、PV和LED器件及石墨烯等等。
3、四级杆二次离子质谱仪QUAD 4550
半导体中的四极杆SIMS掺杂物深度剖析和薄层分析
CAMECA SIMS 4550为光学器件中的硅、高k、硅锗以及III-V族化合物等复合材料的薄层提供超浅深度剖析、痕量元素和组分测量等一系列扩展功能。
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苏州高视半导体技术有限公司
展位号：A114号
苏州高视半导体技术有限公司是高视科技（苏州）股份有限公司的全资子公司，是以机器视觉，人工智能为技术核心，拥有标准化的双核（AI+图像处理）缺陷检测算法技术、纳米级光学成像技术、大数据工艺质量分析技术等多项核心技术，聚焦在半导体晶圆的前道与后道制程中的光学检测环节，为行业提供检测设备和解决方案的高科技现代化公司。产品涵盖了半导体晶圆制程的各个环节和技术节点，包括无图形晶圆检测、图形晶圆检量测、2D&3D关键尺寸量测、缺陷精确分类（ADC）和工艺过程及质量管理系统（GOINFO），为半导体晶圆制程提供数据分析及工艺指导。
部分产品简介
Explorer F0设备采用全自动上下料平台与手臂传送机构，支持SecsGem & E84通讯协议，能够实现产线OHT全自动化生产。应用于晶圆外观缺陷检测、关键尺寸CD量测、同时可选配晶圆背面检测（Wafer Backside ）及边缘检测（Wafer Edge Inspection）。应用场景定位于8/12寸晶圆制程中Fab ADI、AEI、CMP、OQA等制程量检测，兼容FOUP、SMIF、CASSET料盒上料方式。
设备主要功能&性能 :
·GoBrain 双核算法检测功能
·关键尺寸CD量测
·多镜头自动切换功能（2X\5X\10X\20X）
·自动聚焦功能
·支持定制化报表功能开发
·数据统计分析/SPC
·支持晶圆背面检测（选配）
·支持边缘检测功能 （选配）
·自动缺陷分类功能/ADC
·缺陷Offline Review等
值此之际，我们诚邀业界同仁共聚本届盛会，
莅临展位现场参观交流、洽谈合作。
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