光刻胶又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层材料。半导体材料在表面加工时，若采用适当的有选择性的光刻胶，可在表面上得到所需的图像。光刻胶主要应用于显示面板、集成电路和半导体分立器件等细微图形加工作业。
超声波喷涂技术是一种通过超声喷嘴产生雾化效应，让液体成为微细粒子的喷涂技术。光刻胶是一种非常重要的材料，广泛应用于半导体制造、光学器件制造、光电子学等领域。
超声波喷涂技术喷涂光刻胶可以使液体形成微细粒子均匀地分布在基材表面，在基材表面形成的涂层厚度均匀，增加了光刻胶的成型质量，提高了光刻胶的质量和稳定性。超声波喷涂技术可以提高光刻胶的可塑性，能够将光刻胶喷涂到十几纳米至几十微米的厚度，提高了光刻胶的可塑性，有利于获得精度更高的结构。
YMUS超声波喷涂系统采用先进的分层技术，可以精确控制流量，涂布速度和沉积量。低速喷涂成形将雾化喷涂定义为精确且可控制的模式，以在产生非常薄且均匀的涂层时避免过度喷涂。使用超声波雾化技术的直接喷涂被证明是在3D微结构上沉积光刻胶的一种可靠而有效的方法，从而减少了因金属过度暴露于蚀刻剂而导致的器件故障。超声喷涂工艺不受限制底层材料，既可以应用于绝缘体也可以应用在导体层上。
超声波雾化喷涂涂胶法可以灵活的应用于多种面型的基底，既可以用于平面基底的涂胶又可以用于曲面基底涂胶。还具有节省光刻胶、重复性强、涂层均匀性好、涂层厚度和粗糙度易于控制等特点。
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