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应用材料SPIE 2026报告:介绍公司GAA晶体管 、刻蚀、金属化创新技术

   日期:2026-08-24 11:13:01     来源:网络整理    作者:本站编辑    评论:0    
应用材料SPIE 2026报告:介绍公司GAA晶体管 、刻蚀、金属化创新技术

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分享应用材料公司在 SPIE 2026 先进光刻与图形化会议上发布的报告,介绍了公司和行业情况。报告指出受AI终端市场加速增长的驱动,全球半导体行业收入有望在2026年达到1万亿美元,比此前预测提前数年。晶圆制造设备(WFE)的支出结构正转向由数据中心AI驱动的先进制程逻辑芯片、DRAM和先进封装领域。

报告主要内容

一、市场趋势与展望

万亿市场提前到来:AI的爆发性需求推动半导体行业收入预计在2026年达到1万亿美元。

WFE支出结构转变:投资重点从ICAPS(物联网、通信、汽车等)和NAND,转向先进制程逻辑芯片、DRAM和先进封装。

材料工程地位凸显:随着技术节点演进,材料工程在WFE支出中的占比持续增加,成为技术路线图转折的关键。

二、公司创新产品与技术

GAA晶体管技术:推出 Viva™ Radical Treatment 系统,用于对纳米片沟道进行埃米级精度的平滑处理,提升晶体管速度。

刻蚀技术:Sym3™ Z Magnum™ Etch 系统采用第二代脉冲电压技术(PVT2),解决了高深宽比结构的刻蚀难题,实现更优的侧壁和底部形貌。

金属化技术:Spectra™ Moly ALD 系统通过原子层沉积技术,在关键通孔中实现选择性钼填充,相比钨可将接触电阻降低15%。

三、创新战略与生态

聚焦转折点的创新:应用材料公司的战略核心是“聚焦转折点的创新”,通过与客户的协同创新,加速其技术路线图,并为公司创造更高价值。

EPIC中心合作:宣布三星电子加入其位于硅谷的EPIC中心,共同开发下一代半导体技术,加速商业化进程。

报告页面摘选(共24页)

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