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【行业观察】超纯水——芯片国产化的隐秘战场

   日期:2026-08-07 02:23:33     来源:网络整理    作者:本站编辑    评论:0    
【行业观察】超纯水——芯片国产化的隐秘战场

生产一片12英寸的晶圆,大概要消耗掉差不多2.5吨的水。而这些水的电阻率趋近于18.2MΩ·cm这样的理论极限值,总有机碳(TOC)得把控在ppb级,硼、硅等特定的离子甚至得打压到ppt级的程度。

也就是说这不是普通意义上的净水,而是近乎苛刻的水工程。当外界都在讨论半导体国产化的时候,大多数都会把目光放到光刻机、EDA软件这些显眼的环节上面,却很少有人意识到:如果超纯水系统受限,产线也没有办法正常地跑起来。

市场规模与增长逻辑

预计到2035年,全球超纯水市场的规模将攀升至220亿美元,年复合增长率大体上维持在9%左右。半导体制造是最大的需求方面,它耗费掉了全球将近一半的超纯水量。

亚太地区处于极为关键的地位。在2024年的时候,亚太地区为全球贡献了差不多近43%的销量。中国、韩国、印度新建晶圆厂是起到重要作用的因素。

中国市场的增长速度要比全球的平均数值更为快速。行业方面的研究数据显示,国内半导体超纯水市场的规模从2020年的大约5亿元上升到2025年的16亿元,预估在2030年将会达到30亿元,其复合增长率超过16%。

2023年呈现出较为明显的拐点情况。2023年的同比增长的比率从2022年的23%一下子飙升到了31%。这和2023年国内晶圆厂集中进行投产、先进制程产线进行扩容有着直接的关联。

政策与技术标准的倒逼

从“十四五”到“十五五”阶段,半导体产业链的自主可控被放置到了非常高的位置之上。超纯水作为基础性的配套材料,也被纳入到了这个逻辑范畴之中。

电阻率的标准从18.2 MΩ·cm提高到18.25 MΩ·cm,表面看起来仅仅是增加了0.05,可实际上这就意味着从反渗透膜、EDI模块一直到终端抛光混床的每一个环节都得重新进行校准,系统的冗余度被极大地压缩了。

标准的升级直接影响到技术路线。当下主流的工艺仍然是预处理再加上双级反渗透(RO)、电去离子(EDI)、抛光混床、紫外TOC去除以及终端超滤这样的组合。RO和EDI在净化技术应用里占据七成多。

当面对5nm以及以下制程的时候,传统的方案开始遭遇到天花板。

硼元素的含量要求得低于0.05ppt,微粒子(>0.05μm的)要把控在50个/升以内,这就迫使着一些新技术从实验室朝着产线行进。

产业链的卡脖子与国产化突围

超纯水产业链之中的价值分布处于不均衡的状态。上游的核心材料被海外的巨头所掌控着。反渗透膜、超滤膜的聚酰胺基材是由外国的企业进行供应的。高精度在线电阻率仪、颗粒计数器依赖于进口的品牌。

离子交换树脂的高端市场也被极少数的外国企业所占据着。国内的膜厂商近几年来在脱盐率方面有了突破,国产的反渗透膜脱盐率达到了99.5%。可高端晶圆厂产线的验证周期比较长,国产的替代还处于爬坡的阶段之中。

中游的系统集成商如同总厨一般。总厨的职责是将上游的食材烹饪成契合产线口味的菜品。外企在全球半导体超纯水设备领域占据着超过80%的份额。

市场的集中度高得令人感到惊诧。国内超纯水厂商正在从单纯的设备供应朝着EPC+全生命周期运维的转型方向迈进。到2025年的时候,后者的合同占比已经上升到了六成以上。

在2025年,中国超纯水设备的出口额首次突破了22亿美元。东南亚成为了极为关键的增量市场。本土企业在海外的宣扬,正在从成本方面的优势向着技术适配方面转变。

下游的需求具备明显的梯度方面的特点。晶圆厂对于水质的要求是最为严格的,平板显示以及光伏电池片对于水质的要求处于其次的位置,制药行业的注射用水标准有着其自身所具有的体系。

需要留意的是,N型TOPCon光伏技术得以普及之后,单GW的耗水量增加了12%,光伏正在从超纯水的边缘使用者转变成为重要的增量部分。

超纯水这个行业很少能够登上热搜。但是它却对于芯片的良率、光伏的转换效率以及药厂的合规性有着影响。

当国产化替代从光刻机拓展到每一滴水的时候,当18.25 MΩ·cm这样的电阻率成为了新的基准线的时候,这个在产线背后的隐形的战场,才真正被大众所看到。

对于从业者而言,技术的迭代是没有尽头的。今天的极限纯度,或许到了明天就会变成入门的门槛。

(来源:水研智索-水技术与市场观察)

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本文由丨工业水处理丨精编发布
编辑:宋海燕|审核:明云峰
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