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2026年溅射靶材行业观察:涨价、扩产与国产替代的三重奏

   日期:2026-06-24 11:39:31     来源:网络整理    作者:本站编辑    评论:0    
2026年溅射靶材行业观察:涨价、扩产与国产替代的三重奏

2026年的溅射靶材行业,正在经历一场深刻的结构性变化。

一、量价齐升,行业进入景气周期

需求端,AI芯片扩产、3D NAND堆叠层数持续增加、5G和新能源车普及,正在全方位拉动靶材需求。先进制程的靶材单位消耗量是传统工艺的3-5倍。据弗若斯特沙利文测算,2027年全球半导体溅射靶材市场规模将达到251.10亿元。

供给端,全球高端靶材市场长期由日矿金属、霍尼韦尔、东曹、普莱克斯等海外巨头主导。但受地缘政治影响,关键金属供应收紧。2026年第一季度,国内主流电子靶材厂商已全面启动提价,常规靶材涨20%,特殊小金属靶材涨60%-70%。行业普遍认为2026年靶材提价具备持续性。

二、国产替代进入深水区

高端靶材的国产化率仍然不高,尤其在半导体用高纯靶材领域,对外依存度较高。但变化正在发生。国内靶材企业已开始突破铝、铜、钼等高纯金属原料和ITO粉末等关键技术。部分企业的半导体靶材已进入7nm5nm甚至3nm技术节点的芯片制造。

从替代者到全球竞争者,这是国产靶材企业的共同目标。

三、技术升级是根本驱动力

靶材行业的技术方向日益明确:追求更高的纯度和均匀性、实现更大的尺寸和更高的平整度、开发新型制备技术、优化回收与再利用流程。

在制备工艺层面,粉末冶金和熔炼铸造两条传统路线持续精进,等离子喷涂等新兴工艺也在加速产业化。在材料层面,高熵合金靶材等新型材料体系正在从实验室走向应用。

四、谁在布局?

天津新材帮科技有限公司是这一进程中的参与者之一。公司在天津、北京两地布局,以真空热压、冷压烧结、真空熔炼、热等静压、等离子喷涂五大核心技术为支撑,产品涵盖单质金属靶材(钛、铬、铜、铝、镍等30余种,纯度2N5-6N)、合金靶材(钛铝、镍铬、锌锡等20余种)、陶瓷靶材(IGZOAZOATO及氧化物/氮化物/碳化物等30余种),形状覆盖平面靶、旋转靶、多弧靶、台阶靶、颗粒。在配套服务层面,公司提供高熵合金定制、新型靶材研发、靶材金属化、绑定与背板等一站式服务,服务于平面显示、装饰与工具、太阳能光伏和光热、电子和半导体、建筑与汽车玻璃大面积镀膜等多个领域。

行业变革正在进行,而材料,始终是这一切的基石。

 
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