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特邀报告|焦宏飞:DUV薄膜器件性能提升研究

   日期:2026-05-09 22:44:58     来源:网络整理    作者:本站编辑    评论:0    
特邀报告|焦宏飞:DUV薄膜器件性能提升研究

“第二十五届江苏省光学薄膜技术交流会”定于5月28日~5月30日在常州召开。本次会议是由江苏省光学学会主办,江苏省光学学会薄膜光学技术专业委员会承办,辰瑞光学(常州)股份有限公司、亦泰铂膜光学(扬州)有限公司协办。交流会就有关新型薄膜材料应用,先进设计理论与方法,薄膜制备关键工艺技术与挑战,面向激光、紫外、红外、消费电子、车载与安防等特定应用光学薄膜的卡点问题,薄膜表征与测试技术,核心装备与最新进展等方面进行技术交流,欢迎光学薄膜相关领域的研究人员、从业者、企业、学生代表积极参会。

特邀嘉宾:焦宏飞

国家级青年人才,同济大学长聘教授,博士生导师,同济大学精密光学工程技术研究所副所长,致力于强激光薄膜器件、强激光系统、微纳光学的交叉研究,系列性创新工作为国家重大装置、装备提供了核心器件、技术与解决方案。研制出系列高损伤阈值多功能激光薄膜,达到国际领先水平

  承担了国家重大科技专项、国家重点研发计划、国家自然科学基金等科研项目,以第一/通讯作者发表文章三十余篇,在OSA、SPIE顶级会议做特邀报告十余次。获授权专利20余项,其中“一种激光薄膜的制备方法”获2018年中国专利金奖。担任激光,光学和精密测量领域若干国际著名期刊的审稿人。2015年度获得教育部技术发明奖一等奖,2019年度获得国家技术发明二等奖,2019年度获得教育部科技进步奖二等奖,2024年度获得中国光学工程学会科技进步奖一等奖。

报告主题

     DUV薄膜器件性能提升研究

  针对 193nm 深紫外薄膜器件关键技术及应用开展系统研究,聚焦光谱性能与抗激光损伤能力提升。采用共蒸发与离子束溅射等差异化制备工艺,分别实现高反射膜、窄带通滤光膜的界面致密化与膜厚精确控制。针对透射型元件损伤瓶颈,引入氢氟酸刻蚀技术,通过表面改性降低缺陷密度与吸收损耗,抑制缺陷与热应力诱导损伤,显著提升 193nm 下激光损伤阈值。研究成果为深紫外高精度光学系统提供了高性能薄膜器件支撑。

Part.1

会 议 议 程

参会报到:

   5月28日14:00~18:00

   5月29日8:00~9:00

薄膜技术交流会:

   5月29日9:00~17:00

会议结束:

   5月30日9:00~10:00

Part.2

会 议 地 点

                 江苏·常州

                常州大酒店                

        常州市武进区东方二路666号 

Part.3

会 议 注 册

会 议 缴 费

采用在线扫码报名的方式。请各位参会代表于2026年5月20日前在线报名,请扫描下方二维码:

会议费用

优选在线支付(广陵区赫尚信息咨询中心负责微信收款):

   注册完成后,请在线微信支付,付款请扫码:

    需开发票(增值税普通发票),请扫码申请加好友,发“付款记录+开票信息”:

2、银行汇款(协办单位亦泰铂膜光学(扬州)有限公司负责本次会议对公收款):

银行账号:32050174910000001314

开户银行:建设银行扬州徐凝门支行

户       名:亦泰铂膜光学(扬州)有限公司

备      注:汇款时请务必注明“薄膜会议+姓名+单位”,以便核对。

Part.4

会 议 住 宿

常州大酒店住宿协议价:

   大床房/双床房350元/晚(含早)

Part.4

会 务 组

注册、企业赞助:                         

唐乾隆:

13812181190@163.com

13812181190(微信同号)

投稿、发票:

涂建军:

tujj0801@163.com

13301451828;

会务工作人员:

唐乾隆13812181190

涂建军13301451828

熊  丹13423931838

王  佳18896790405

唐  杨15062820785

Part.5

关 注 我 们

会议相关信息持续更新中,请关注会议最新消息:

      薄膜光学技术专业委员会公众号

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