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2026 年我国光刻机行业正处在自主突破的关键阶段，整个行业的发展速度十分迅猛。光刻机产业链分为上游零部件、中游整机制造和下游芯片应用三个部分，上游的光学、光源系统过去被国外企业掌控，现在国内企业已经实现了技术突破。中游制造里，上海微电子是国内唯一能量产前道光刻机的企业，主攻 90nm 到 28nm 的成熟制程。下游需求主要来自 AI 芯片、智能汽车和供应链安全保障。
市场规模方面，2020 年到 2025 年行业规模从 1.4 亿元增长到 12.6 亿元，年均增速达到 55.1%。预计 2026 年规模为 16.1 亿元，2030 年将达到 136.5 亿元。全球光刻机市场被国外企业垄断，我国企业市场占比不高。不过上海微电子在 90nm 制程实现突破，28nm DUV 光刻机也在验证中，和国外的差距正在缩小。
上游光学系统国内和国外顶尖水平有明显差距，长春国科精密等企业能做出 90nm 制程镜头。光源系统领域，科益虹源实现了 DUV 准分子激光光源量产，给国产 28nm 光刻机提供光源支持。我国还在研发 EUV 光刻机，计划 2028 到 2030 年实现量产应用。
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