李朝阳表示：合肥欣奕华拥有高精度、高稳定性点源和线源产品，同时为了配合产线长时间的量产运营，也设计了Revolve形式的点源，可实现长时间的连续稳定运行。其次，公司内部开发出高精度蒸发源模拟系统，可针对不同基板尺寸进行定制化模拟，蒸镀系统可靠性高，控制精度也是非常高，可实现长时间连续生产稳定化运营。
下面讲一讲单结钙钛矿工艺，整个钙钛矿技术处于0—1的开发阶段，工艺路线尚未定形，涉及到很多核心装备，比如说Sputter，钙钛矿吸收层狭缝涂布和蒸发镀膜设备，针对钝化层SnO2，倾向于选择ALD/RPD设备，其中BCP、LiF，以及电极材料Ag、Cu也可以采用蒸镀设备来制作。目前，很多厂商都倾向于各种路线同时布局，很多的设备都会同时采购，比如说涂布设备或者是溅射设备和蒸镀设备。
晶硅+钙钛矿技术，现在很多企业倾向于选择异质结+钙钛矿的路线，由于底电池HJT表面有微米级绒毛，如果使用涂布的方式，膜厚均匀性是很难控制的，所以很多企业选择两步法工艺路线，先用蒸镀的方式沉积无机盐的钙钛矿骨架层，然后使用涂布方式沉积有机盐。可以说目前钙钛矿离不开真空蒸镀设备。合肥欣奕华从2015年布局蒸镀设备的开发，开始针对蒸镀机核心技术及关键装置攻关；2017年至今，是技术不断迭代和提升的阶段，实现稳定的量产出货。
下面是合肥欣奕华蒸镀相关产品介绍，主要有两大块：一是蒸镀关键装置；二是蒸镀设备。
蒸镀关键装置包含机械定位，我们目前可以做到150μm，光学对位目前是2μm以内。蒸发源方面，合肥欣奕华拥有高精度、高稳定性点源和线源产品，目前点源产品从5cc容量到1500cc，产品可覆盖客户不同场景需求。同时为了配合产线长时间的量产运营，我们也设计了Revolve形式的点源，它可以满足量产需求，实现长时间的持续稳定运行。针对线源，我们的产品可以对应从370mm到1250mm宽幅的基板蒸镀。
另外，针对钙钛矿电池蒸镀装备，电池组件客户对于基板尺寸的要求各不一样，定制化程度非常高。为了保证设计的装备满足客户规格的需求，我们公司内部开发了一款蒸发源模拟软件，针对蒸发性均匀性进行模拟，从而得到最优的设计参数，保证设计的产品满足技术规格要求。还有蒸镀机成膜控制精度也是非常高的，膜厚均匀性、速率稳定性、膜厚准确性及再现性的偏差可以控制到2%以内，为了实现高精度的控制，我们通过内部搭建控制系统，实现了连续生产长时间的稳定性。
针对钙钛矿蒸镀机产品，目前有用于研发的钙钛矿RD蒸镀机，还有用于的量产钙钛矿蒸镀机。目前RD设备可蒸镀基板尺寸300mm×300mm、400mm×300mm、500mm×500mm、650mm×450mm、1200mm×600mm，还可以根据不同的需求定制不同尺寸的设备。目前欣奕华已实现了1200mm×600mm中试量产线的交付，且已具备GW级蒸镀机蒸发源核心技术，最大可对应的基板尺寸为1.25m的宽幅。
合肥欣奕华从OLED显示行业过渡到钙钛矿行业，对比蒸镀技术规格来说，比如片内均匀性、膜厚再现性、速率稳定性等，OLED显示行业的规则要求高于钙钛矿行业，可能只看参数差异不明显，但为了提高1—2个百分点做出了很大的努力。合肥欣奕华从OLED行业转到钙钛矿行业，我们有能力和信心为客户提供高品质的蒸镀装备。
目前钙钛矿还处于研发阶段，大部分是处于实验室阶段，要实现商业化，需要解决大面积稳定成膜的工艺难题，目前主流技术是狭缝涂布和真空蒸镀。
这是干法真空蒸镀和湿法狭缝涂布的对比，狭缝涂布相对真空蒸镀成本稍低，材料利用率更高。不过真空蒸镀已具备大面积稳定成膜的技术，而且蒸镀是在高真空环境下进行的，均一性更好，成膜质量更高，工艺适合大规模量产。还有蒸镀也可以对应晶硅粗糙衬底制作叠层器件，沉积速度可精准控制，0.01Å/s—60Å/s。
狭缝涂布是在大气环境中成膜，会受到环境温度、气体和灰尘的影响，导致表面出现缺陷和膜厚均一性差等问题。其次涂布受限于模头制作难度，大尺寸量产存在一定技术难度。另外，在晶硅粗糙绒面衬底制程问题还要攻克，同时结晶工艺窗口相对较窄，给大面积结晶工艺带来了难度。最后，狭缝涂布存在有机溶剂的回收及环境污染的问题。真空蒸镀它的缺点目前最大的问题是成本较高，因为现在蒸镀很多的核心部件，比如，膜厚仪、真空泵和晶振探头都是依赖进口，比较昂贵。
在大面积成膜方面，合肥欣奕华有很多核心技术：首先是卤化物材料防腐蚀共蒸技术，钙钛矿吸收层的有机盐材料，具有较强的弥散性和腐蚀性，在蒸镀的时候容易腐蚀设备导致设备损坏。针对这块，我们做了独特的坩埚，选择特殊材质的部件，以及针对真空泵做特殊的保护，以确保卤化物材料腐蚀问题得到解决。
第二，无变性坩埚设计，因为要实现长时间的连续生产，可能要连续生产两三百个小时，蒸镀有一个现象，随着坩埚里面材料的消耗，蒸发温度不断升高，到一定的温度临界点会导致材料变性，我们通过特殊硬件设计可确保材料无变性风险。
三是近空间高材料利用率技术。OLED显示行业材料利用率很低，大约20%左右，针对钙钛矿行业，我们优化了线源结构和喷嘴设计，目前材料利用率达到50%以上。
最后是线源长时间稳定化蒸镀技术，目前我们开发了多款线源，从370mm到1250mm，通过精密的结构设计，可以确保整个生产过程中连续长时间的稳定化蒸镀。
下面介绍一下我们的主要蒸镀设备：G1蒸镀设备，这款设备应用于OLED行业进行材料验证和器件研发。基板尺寸是200mm×200mm，采用Cluster形式，中间是真空传输腔，工艺腔连接在传输腔周围，基板依靠真空机械手进行搬送。因为OLED器件蒸镀层数比较多，通过机械手可以更方便、更有效地去蒸镀需要的膜层。不过它也有缺点，这种设计材料的利用率比较低。再就是我们G2.5的设备，它更多应用于车灯、车显、PMOLED等小尺寸OLED的面板量产，可蒸镀尺寸370mm×470mm，目前有Cluster形式和Inline形式，对位精度正±3μm，稼动时间144h，Tact time
10min。
这是硅基蒸镀设备，应用于硅基OLED面板量产，可对应8寸和12寸Wafer蒸镀。这是Inline钙钛矿RD蒸镀设备机，我们可以做到300mm×300mm，500mm×500mm，650mm×450mm，可以蒸镀PbI、CsBr等钙钛矿吸收层材料、以及LiF、BCP、Ag、Cu等材料。设备优势就是具备Auto PID功能，保证蒸镀过程中速度的精确控制，蒸镀稳定，成膜均匀性高。可以配置点源也可以配置线源，满足客户多样化需求。具有高信赖性，可实现稳定生产。
这是1200mm×6000mm Inline钙钛矿蒸镀设备的中试量产蒸镀机，首次在钙钛矿行业应用线源进行蒸镀，实现高速率蒸镀，高稳定和成膜均匀性，节拍时间60s。
合肥欣奕华2013年成立，我们主要有高端装备、工业机器人和智慧工厂解决方案。合肥欣奕华成立十年以来，已在多个行业、多个领域取得了重大的技术突破。合肥欣奕华高端装备主要包括半导体设备、检测及修复设备、蒸镀设备和巨量转移设备。智慧工厂我们有工业信息系统、自动化解决方案、智能仓储解决方案等。
展望未来，合肥欣奕华会加大钙钛矿GW级蒸镀机的研发力度。首先是稼动时间的提升，通过蒸发源结构和工艺优化，稼动时间300小时以上，稼动率达到90%，材料利用率提升到70%。优化蒸镀机整机设计，将生产节拍提升至45s。同时关注成本降低，希望不断提升设备性能和降低设备成本，不断提高光伏企业投资汇报率。
合肥欣奕华致力于为客户打造智能制造工业生态系统，更将持续专注于蒸镀装备开发，为客户提供完美的蒸镀解决方案，同时也欢迎其他设备厂商与我们合作，共同打造钙钛矿电池整线解决方案。
