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技术总结:
爱旭高可靠性图形化技术:成本低,相比于传统光刻法精度与可靠性更好;
自研高精度电镀装备,实现精准沉积、可控碎片、高良率与高产能,真正推动技术量产;
传统方案:p、n分区两步法掺杂依赖外源性光刻掩膜-价格昂贵、良率和产能低、引入污染;
创新方案:首创自掩膜分置法制备p、n区钝化接触,“LPCVD+高温自掩膜+激光图形化+湿法刻蚀”多步协同创新;
可规模制造地定制化设计pn区隧穿层和掺杂层,协同实现pn区最佳钝化接触性能;






















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