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刚对中断供设备,美日荷又要拒绝售后,中方强硬回复:将强制回购

   日期:2023-08-17 14:04:52     来源:网络整理    作者:本站编辑    评论:0    

从2019年以来,以光刻机为代表的半导体行业,已经成为中美角力的关键领域。

然而,面对着美、日、荷等国的先发优势和360°全方位无死角的围堵,我国的光刻机产业陷入了严重危机,因为缺乏在相关领域的技术积累,导致先进光刻机迟迟难以突破。国内空有华为麒麟、寒武纪、龙芯等一众高端芯片设计商,却终究不能制造。

为此,在美日荷三方协议出台前,高达1000多台的先进光刻机被进口到国内,为国内芯片生产商所使用。

然而,过于依赖外国技术的弊端极为明显,外国产品往往价格高昂,以我们进口的千余台光刻机为例,均价为2亿到4亿元,按此计算总支出高达2000亿到4000亿。这意味着,仅仅购买这些光刻机,就耗费了数以百亿千亿计的外资。

这就是没有能掌握高新技术付出的巨大代价,我们用了30年的时间,证明了“造不如买”这句买办经典名言的错误。

从2019年开始,美国对中国发动半导体战争开始,国家意识到这个问题的严重性,才开始大举投入,力求在最短的时间内实现光刻机技术的跨越式发展。

不得不说,中华民族确实是世界上最聪明的民族。

短短三年的时间,半导体领域的设计软件,材料,光源等等一众设备被不断突破。然而正在此时,掌控着世界唯一先进光刻机生产的荷兰,却在最紧要的关头对中国光刻机进行了致命一击:对华断供2000i及以上的精尖光刻设备,甚至切断中企已购设备的售后服务,意图再次让中国设备成为“一堆废铁”。

但显然荷兰低估了中国的反制能力,事情绝对不会就这么简单结束,而中国也绝不可能任人宰割!

一、荷兰早就对中国心存警惕

荷兰加入美国的三方协议,很多国内的人善良的认为,这完全是美国胁迫的缘故。

其实不然。

荷兰作为世界上唯一一个提供先进光刻机的国家,对光刻机领域的风吹草动极为敏感。而中国虽然因为某些原因曾经放慢了追赶的脚步,但一直没有彻底放弃。

在美国对中国半导体产业动手前,荷兰就尤为关注中国光刻机的发展。可以说,我们的一举一动,对方都心知肚明。

大家应该还曾记得,ASML高管曾经说过:就是给中国人图纸,他们也造不出光刻机。

当时很多人对他莫名其妙来这么一句话不无疑惑,后来真相被不断披露,原来他们了解到中国的光刻机研发正在加速,取得了不少突破,才特意放出的烟幕弹,生怕中国超越自己。

为了能够维护自己的霸主地位,荷兰显然早已经动了歪心思。

就这样,荷兰半推半就的加入了美国主导的三方联盟,并签署了旨在对中国半导体产业进行灭绝式打击的《瓦森纳协议》。

而荷兰能做的,就是彻底断供中国光刻机,并不再提供售后服务。

二、5亿一台天价光刻机成废铁,中国:绝不饶恕

荷兰宣布不再提供售后,显然会给中国造成极为严重的损失,不仅是前期的大量投资收不回来,更严重的是导致中国技术进步的道路被阻断相当长一段时间。

我们花费千万亿高价买回来的光刻机要变成一堆废铁。

对此,中国表示:不可能!

面对不讲信用的荷兰,中企纷纷对其喊话:如果不继续提供售后服务,就让荷企把我们买的设备都回购了!就是说:要么给修设备,要么把吞下的钱吐出来。

这意味着,荷兰将不得不花费1000多亿美元,来收拾自己造成的烂摊子。

当然,别说这些钱ASML自己拿不出来,就是早已经捉襟见肘的荷兰政府都拿不出来。

显然这是我们预料之中的结果,而对荷兰最大的惩罚将不止于此。如果荷兰迟迟不愿意拿出相应解决方案,那么中国将会彻底否认它在国内的专利权,也就是说,我们的科技人员可以无视ASML的专利,随意借鉴购买的光刻机中的技术,并为我所用。

这不仅能找回部分损失,还能让我们的EUV光刻机尽快国产化。

三、始料未及,荷企态度大转弯

荷兰没有想到中国竟然会如此硬气。显然低估了中国,将会让自己付出难以承受的代价。

但一方面是天价赔偿,另一方面是专利权,如何抉择,荷兰政府显然有点懵逼。

前者的话,自己把家底全都拿出来,也不够。后者一旦失去的话,那么未来中国光刻机迅速崛起,ASML将会彻底终结自己的寿命。

于是迫于中方的强硬,荷兰只能向我们示好:旧型号的1980D浸润式光刻设备,可以照常向中企出货。

不过,荷兰的这一表态,却让国内厂家一致嗤之以鼻。

如果放在两年前,那么我们还真的会考虑一下,但是现在,上海微电子的28nm光刻机已经明确要在2023年底之前交付使用,荷兰的这一表态,显然不只是缺乏诚意,还妄图用旧设备抢占中国市场,对上海微电子形成价格碾压。

但中国怎么可能上它这个当?

四、国产光刻机即将迎来春天

荷企频出损招,其实就是看准了我们在光刻设备上的暂时落后。但在它看不见的地方,我们正在不断闷头追赶。国产光刻机一直在进步,不仅是上海微电子,包括华为等企业都在众志成城攻克这些技术。

在去年底,华为就宣布了关于“反射镜、光刻装置及其控制方法”的专利,涉及到EUV光刻研究的重要技术。我们的武汉光电研究中心,也宣布打破了光束衍射极限的局限,做出了最小至9纳米线宽的线段。

我们有理由相信,不再被西方光刻设备卡住关键行业的未来,就在不远处。

 
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