2025年中国气体提纯行业发展现状及趋势分析,从基础物理分离到智能化、集成化工艺的演进「图」

超高纯气体（纯度≥99.999%，即5N及以上）是半导体、光伏、航空航天、量子计算等高科技产业的关键基础材料。随着现代工业对气体纯度的要求不断提高，气体提纯技术经历了从基础物理分离到智能化、集成化工艺的演进。

近年来国家大力推动相关产业向中高端迈进，增强产业核心竞争力；多部委出台相关政策，鼓励气体提纯行业研发创新、降本增效。下游主要为半导体与集成电路、光伏等战略性新兴产业或国家鼓励类产业，有着较为广阔的发展前景。近年来国家及相关部门相继出台和完善一系列行业规范、政策法规和发展规划，能够为下游行业发展提供更为坚实的支撑。

气体提纯行业产业链上下游涵盖原料供应、提纯加工及终端应用三大环节。上游以气体原料采集为主，包括空气分离、工业副产气、天然气提纯及特种气体合成原料。中游聚焦提纯技术，采用吸附法、膜分离、低温精馏、化学吸收等工艺提升气体纯度，满足不同领域需求。下游应用广泛，电子半导体行业需高纯氮、氩用于芯片制造；医疗领域依赖医用氧、麻醉气；化工行业使用高纯氢、合成气；食品包装采用氮气保鲜；新能源领域如氢能产业需高纯氢提纯。

随着下游半导体及其他高科技行业的快速发展与成熟，相关企业对气体纯化器和气体过滤器的性能要求也逐步提高。经过多年积累，行业已形成了一系列具备较强行业竞争力的核心技术企业，成熟应用催化、吸附、吸气剂等各类核心工艺，能够及时根据下游行业需求，提供富有行业竞争力与技术实力的产品。据统计2024年全球高纯气体市场规模约为360亿美元，2020-2024年CAGR约为6.5%。

我国高纯气体纯化设备行业高端市场长期由国际企业巨头占据，应特格（Entegris）、Air Water Mechatronics Inc、大阳日酸（Taiyo Nippon Sanso）等国际行业巨头依托深厚的技术积累、产品高性能和高品质及使用广泛性在竞争中处于优势地位。特别在半导体制造的多个环节，在全球及中国都有较高的占有率和良好的口碑。国内企业基于长期的研发和技术积累，在纯化技术、产品质量及服务等方面对国际巨头进行加速追赶。

制造复杂性及材料纯度要求不断提高，新兴应用需要更强大、速度更快且更节能的半导体。为此，半导体架构不断变化，尺寸持续缩小，晶体管设计愈发复杂，极紫外光刻、多层图案化技术得以应用，鳍式场效应晶体管（FinFET）、3DNAND和环绕栅极晶体管（GAA）等垂直结构也应运而生。这些先进技术和架构需要更多的工艺步骤、新型创新材料，以及更精密的污染控制解决方案。随着特征尺寸减小和3D结构增多，半导体制造工厂中的污染控制对于实现可接受的器件良率至关重要。先进制程所需的光刻、沉积、化学机械抛光（CMP）、蚀刻和清洗等工艺步骤的增加，对材料纯度要求不断提高，将提升气体纯化控制系统解决方案的整体需求。

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