一、核心部件（决定光刻能力）
光源系统：提供特定波长的光，决定精度。
关键企业：ASML（垄断高端）、北京科益虹源（国产光源）
光学镜头：将电路图案精确投影到硅片上。
关键企业：德国蔡司（顶级镜头）、茂莱光学（国产DUV镜头）
工作台：控制硅片超精密移动，定位达纳米级。
关键企业：ASML、华卓精科（国产突破）
光刻胶：光敏材料，曝光后形成电路图形。
关键企业：日本TOK/JSR（主导）、南大光电/彤程新材（国产替代）
掩模版：承载电路设计，要求极高精度。
关键企业：Photronics、清溢光电（国产）
二、配套设施（保障光刻过程）
光刻胶配套材料：影响光刻胶性能。
超纯水系统：用于浸没式光刻，要求极高纯度。
清洗与检测设备：保证晶圆清洁与质量。
高纯材料与真空腔体：输送化学品、维持稳定运行环境。
#经济 #金融理财 #股市 #半导体 #未来科技趋势 #高科技企业 #行业研究
光源系统：提供特定波长的光，决定精度。
关键企业：ASML（垄断高端）、北京科益虹源（国产光源）
光学镜头：将电路图案精确投影到硅片上。
关键企业：德国蔡司（顶级镜头）、茂莱光学（国产DUV镜头）
工作台：控制硅片超精密移动，定位达纳米级。
关键企业：ASML、华卓精科（国产突破）
光刻胶：光敏材料，曝光后形成电路图形。
关键企业：日本TOK/JSR（主导）、南大光电/彤程新材（国产替代）
掩模版：承载电路设计，要求极高精度。
关键企业：Photronics、清溢光电（国产）
二、配套设施（保障光刻过程）
光刻胶配套材料：影响光刻胶性能。
超纯水系统：用于浸没式光刻，要求极高纯度。
清洗与检测设备：保证晶圆清洁与质量。
高纯材料与真空腔体：输送化学品、维持稳定运行环境。
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