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一文读懂半导体干法蚀刻Etch机台简单分类

   日期:2025-11-02 19:04:12     来源:网络整理    作者:本站编辑    评论:0    
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蚀刻是半导体制造的核心工艺,用于将光刻胶图形转移到晶圆表面。根据被刻材料、工艺类型、等离子体源和反应室结构,蚀刻机台分为介质蚀刻机、硅蚀刻机和金属蚀刻机等。干法蚀刻技术结合化学反应和物理轰击,是主流技术。#半导体 #离子注入 #半导体工艺 #刻蚀
 
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