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光刻胶领域,我国取得新突破！

日期：2025-11-02 17:49:45 来源：网络整理作者：本站编辑评论：0

光刻胶领域,我国取得新突破！

光刻技术是推动集成电路芯片制程工艺持续微缩的核心驱动力之一。
近日，北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及合作者通过冷冻电子断层扫描技术，首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三维结构、界面分布与缠结行为，指导开发出可显著减少光刻缺陷的产业化方案。相关论文近日刊发于《自然·通讯》。

在技术突破，政策支持和国产替代下，半导体成长确定性较高。看好做多国产替代！
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