不同频率射频电源下的等离子清洗效果
等离子清洗机是一种干法物理化学清洗设备。它是利用低真空状态下工艺气体因电场的作用，产生辉光放电，将工艺气体电离成离子流，轰击工件表面，使其产生物理化学反应，达到清洗目的。等离子清洗机按其等离子激发频率可分为:中频(40KHz)、射频(13.56MHz)、射频（27.12MHz）和微波(2.45GHz)等等离子清洗，随着频率的升高，离子浓度增大，离子能量下降。
等离子清洗机不同频率的清洗效果对比
射频等离子清洗辉光
不同频率源下的清洗反应机制
等离子体类型
激发频率
反应机制
解释
中频等离子体
40KHz
物理为主
激发频率为40KHz激发的等离子体为中频等离子体，其等离子体密度比较低;主要发生物理反应，40kHz的等离子体会改变被清洁表面性质，容易对产品表面造成电子损伤，主要是应用在污染比较重而且不容易受到电子损伤的。
射频等离子体
13.56MHz、27.12MHz
物理+化学
激发频率为13.56MHz或27.12MHz的等离子体为射频等离子体，其等离子体的密度，具有的能量较高;既发生化学反应也发生物理反应，大多应用在半导体的生产过程，清洗作用介于其他两种频率激发的等离子体之间。
微波等离子体
2.45GHz
化学
激发频率为2.45GHz的等离子体为微波等离子体，微波等离子体具有高密度、高电离度、大体积、均匀、无电极污染、运行气压低、设备简单、参数易于控制等优点，其等离子体的离子浓度是三种中最高，主要发生化学反应，可以用在一些敏感元器件的清洗。
因在等离子清洗中，射频等离子较为常见，因此就13.56MHz和27.12MHz射频等离子的一些区别进行详细比较。
1、300W/600W射频电源
形态：射频、匹配一体机
300W/600W系列射频电源匹配器一体机将射频电源和匹配器集成到一台设备中，结构紧凑，体积小，安装使用便捷。内置稳定可靠的信号源、功放模块及匹配器，能精确地测量入射和反射功率，可精准控制输出功率。广泛用于真空等离子清洗行业，可提供13.56MHz和27.12MHz两类射频频率。
n射频电源与匹配器一体化设计，结构紧凑，便于运输与安装；
n全数字化处理，匹配精度高，响应速度快输出功率余量大，可长期稳定运行；
n精确测量输出功率、反射功率及匹配阻抗支持自动增益控制(AGC)，实现输出功率精确调控；
。#等离子清洗机 #等离子表面处理 #等离子清洁机 #真空等离子清洗机
等离子清洗机是一种干法物理化学清洗设备。它是利用低真空状态下工艺气体因电场的作用，产生辉光放电，将工艺气体电离成离子流，轰击工件表面，使其产生物理化学反应，达到清洗目的。等离子清洗机按其等离子激发频率可分为:中频(40KHz)、射频(13.56MHz)、射频（27.12MHz）和微波(2.45GHz)等等离子清洗，随着频率的升高，离子浓度增大，离子能量下降。
等离子清洗机不同频率的清洗效果对比
射频等离子清洗辉光
不同频率源下的清洗反应机制
等离子体类型
激发频率
反应机制
解释
中频等离子体
40KHz
物理为主
激发频率为40KHz激发的等离子体为中频等离子体，其等离子体密度比较低;主要发生物理反应，40kHz的等离子体会改变被清洁表面性质，容易对产品表面造成电子损伤，主要是应用在污染比较重而且不容易受到电子损伤的。
射频等离子体
13.56MHz、27.12MHz
物理+化学
激发频率为13.56MHz或27.12MHz的等离子体为射频等离子体，其等离子体的密度，具有的能量较高;既发生化学反应也发生物理反应，大多应用在半导体的生产过程，清洗作用介于其他两种频率激发的等离子体之间。
微波等离子体
2.45GHz
化学
激发频率为2.45GHz的等离子体为微波等离子体，微波等离子体具有高密度、高电离度、大体积、均匀、无电极污染、运行气压低、设备简单、参数易于控制等优点，其等离子体的离子浓度是三种中最高，主要发生化学反应，可以用在一些敏感元器件的清洗。
因在等离子清洗中，射频等离子较为常见，因此就13.56MHz和27.12MHz射频等离子的一些区别进行详细比较。
1、300W/600W射频电源
形态：射频、匹配一体机
300W/600W系列射频电源匹配器一体机将射频电源和匹配器集成到一台设备中，结构紧凑，体积小，安装使用便捷。内置稳定可靠的信号源、功放模块及匹配器，能精确地测量入射和反射功率，可精准控制输出功率。广泛用于真空等离子清洗行业，可提供13.56MHz和27.12MHz两类射频频率。
n射频电源与匹配器一体化设计，结构紧凑，便于运输与安装；
n全数字化处理，匹配精度高，响应速度快输出功率余量大，可长期稳定运行；
n精确测量输出功率、反射功率及匹配阻抗支持自动增益控制(AGC)，实现输出功率精确调控；
。#等离子清洗机 #等离子表面处理 #等离子清洁机 #真空等离子清洗机
