断供EDA，对落后制程无所谓国产替代，但先进制程影响很大，只能盗版，国产的还不行。2023盗版都出来了。
但半导体光刻胶是易耗品，九成五依赖于信越化学等，国产还在28nm之下小批量试用，28—7nm会彻底趴窝。
光刻机倒还好，28nm国产批量应该在八九月份出来，通过多重曝光可以做到7。 #华为
但半导体光刻胶是易耗品，九成五依赖于信越化学等，国产还在28nm之下小批量试用，28—7nm会彻底趴窝。
光刻机倒还好，28nm国产批量应该在八九月份出来，通过多重曝光可以做到7。 #华为
EDA和光刻胶不一样
