璞璘科技自主设计研发的首台PL-SR系列喷墨步进式纳米压印设备，已于8月1日顺利通过验收并交付至国内特色工艺客户。
这是中国首台半导体级步进纳米压印光刻系统，攻克了步进硬板的非真空完全贴合、喷胶与薄胶压印、压印胶残余层控制等关键技术难题，可对应线宽＜10nm的纳米压印光刻工艺。
目前，该款设备已初步完成储存芯片、硅基微显、硅光及先进封装等芯片研发验证。
PL-SR是一种通用的重复步进纳米压印光刻系统，其具有高效、高精度的压印功能，并具备拼接复杂结构的性能。
它采用高精度的喷墨打印式涂胶方案，还能辅助高精度的对准功能，可实现高精度拼接对准精度要求的纳米压印工艺。
该系统可满足模板拼接的需求，最小可实现20mm x 20mm的压印模板均匀的拼接，最终可实现300mm(12in)晶圆级超大面积的模板。
这款设备配备璞璘科技自研的模板面型控制系统、纳米压印光刻胶喷墨算法系统、喷墨打印材料匹配，并搭配了自主开发的软件控制系统，成功攻克喷墨涂胶工艺多项技术瓶颈，在喷涂型纳米压印光刻材料方面实现重大突破。
在高端半导体制造领域，业界要求对准精度需突破10nm以下，甚至向1nm级逼近。这一技术指标的实现，其难度与成本已与国际主流极紫外光刻（EUV）设备处于同一量级。璞璘科技认为，要突破纳米级对准这一\"卡脖子\"技术，必须整合产业链优势资源。
#半导体 #光刻设备 #EUV #芯片#紫外光刻 #璞璘科技 #压印 #光刻机
这是中国首台半导体级步进纳米压印光刻系统，攻克了步进硬板的非真空完全贴合、喷胶与薄胶压印、压印胶残余层控制等关键技术难题，可对应线宽＜10nm的纳米压印光刻工艺。
目前，该款设备已初步完成储存芯片、硅基微显、硅光及先进封装等芯片研发验证。
PL-SR是一种通用的重复步进纳米压印光刻系统，其具有高效、高精度的压印功能，并具备拼接复杂结构的性能。
它采用高精度的喷墨打印式涂胶方案，还能辅助高精度的对准功能，可实现高精度拼接对准精度要求的纳米压印工艺。
该系统可满足模板拼接的需求，最小可实现20mm x 20mm的压印模板均匀的拼接，最终可实现300mm(12in)晶圆级超大面积的模板。
这款设备配备璞璘科技自研的模板面型控制系统、纳米压印光刻胶喷墨算法系统、喷墨打印材料匹配，并搭配了自主开发的软件控制系统，成功攻克喷墨涂胶工艺多项技术瓶颈，在喷涂型纳米压印光刻材料方面实现重大突破。
在高端半导体制造领域，业界要求对准精度需突破10nm以下，甚至向1nm级逼近。这一技术指标的实现，其难度与成本已与国际主流极紫外光刻（EUV）设备处于同一量级。璞璘科技认为，要突破纳米级对准这一\"卡脖子\"技术，必须整合产业链优势资源。
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