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展品预览 | CSE国际化合物半导体产业博览会展品提前看Ⅸ

   日期:2024-03-28 23:55:22     来源:网络整理    作者:本站编辑    评论:0    

2024九峰山论坛暨中国国际化合物半导体产业博览会(简称“JFSC&CSE”)将于2024年4月8-11日,在武汉光谷科技会展中心举办。

作为现代信息技术的基石,半导体产业的进步对国家的科技实力和经济竞争力具有深远影响。2024九峰山论坛暨中国国际化合物半导体产业博览会将以“聚势赋能 共赴未来”为主题,采用“前沿论坛+示范展示+技术与商贸交流”的形式,集结政府、全球化合物半导体产业的新质生产力与链主企业,协同业界领军人物、头部科研机构及科技金融机构代表,共同研讨行业前沿论题及第三代半导体技术的应用与发展,引领化合物半导体产业的可持续发展,加速驱动中国化合物半导体产业链的完善和升级。

Welcome!

JFSC&CSE 2024

为此,我们将为您提前提供丰富的展品预览信息,

记得收藏并且呼唤业内好友一起报名参观展会哦~

备注:展品介绍不分先后,仅供参考!

备注:双击查看展商名单及布局!

1

北京青禾晶元半导体科技有限责任公司

展位号:3T73号

北京青禾晶元半导体科技有限责任公司成立于2020年7月,是全球少数掌握全套先进半导体异质集成技术的半导体公司之一。公司采用具有自主知识产权的先进技术,可实现半导体材料生长、异质融合与先进封装,有效的解决先进半导体材料或器件良率低、成本高、性能受限等痛点问题。公司致力于成为领先的晶圆异质集成技术与方案的提供商,面向第三代半导体、先进封装、功率模块集成等应用领域,专注于新型半导体材料的研发生产制造和先进技术研究。公司核心团队包含教授级专家、海外高层次人才、市场战略专家、资深生产专家和管理专家等。从2020年至今相继投资设立了专注于满足市场需求的键合复合衬底生产线、技术研发中心等平台。

部分产品简介

青禾晶元的Emerald-SiC产品是基于公司创新的先进晶圆键合与剥离转移技术实现的高/低质量SiC复合衬底材料,可以有效降低现有SiC衬底材料的成本,并在一定程度上提高器件性能。Emerald-SiC的推广与普及将进一步打开SiC器件的应用场景,助力SiC行业的高质量发展。

青禾晶元的Obsidian-POI产品是基于公司创新的先进晶圆键合与剥离转移技术实现的压电复合衬底材料,可以有效提升声表面波器件性能,可以广泛应用于5G手机与基站等应用场景。公司的创新键合技术和产品可实现晶圆、芯片的室温或低温键合,降低热应力影响。

以键合技术为核心,依托其它半导体加工领域的核心技术如离子注入、表面处理、清洗、检测、修复等,公司面向晶圆级材料异质集成、三维堆叠、先进封装、超精密加工等领域提供技术服务和整体解决方案,可实现多种材料和芯片的异质异构融合。

2

深圳市志橙半导体材料股份有限公司

展位号:2T64号

  

深圳市志橙半导体材料股份有限公司成立于2017年12月26日,公司成立以来主要研发、生产、销售用于半导体设备的碳化硅涂层石墨零部件产品,并提供相关碳化硅涂层服务,主要产品可用于碳化硅(SiC)外延设备、MOCVD设备、硅(Si)外延设备等多种半导体设备反应腔内,公司产品及服务广泛应用于半导体及泛半导体领域。同时,公司通过工艺改进提升、新产品研发等手段挖掘市场需求,坚持开发一代、储备一代、销售一代的发展战略,积极开展外延、刻蚀、氧化扩散和晶体生长等半导体设备用实体碳化硅零部件、烧结碳化硅零部件和碳化钽涂层石墨零部件等新产品研发,并陆续进入试制、验证阶段。公司致力于成为全球半导体设备零部件、材料领域的一流企业,持续推动半导体关键碳化硅零部件的技术进步。NCT是一家以新兴功率半导体材料β-Ga2O3为主产品的初创公司。领导并开发以β-Ga2O3为基础的基板,外延及器件全产业性产品。

部分产品简介

1、SiC涂层石墨盘

·微米级加工精度

·定制化设计提升产品良率

·片间片内一致性

·提供TaC涂层石墨件解决方案

2、TaC涂层件

·涂层厚度20-30μm

·高纯度,高结合力

·定制化尺寸

·提供Bulk SiC产品及解决方案

3、CVD工艺生长

·超高纯度

·定制厚度0.35-15mm

·定制化电阻率:0.1Ω·CM-1000Ω·CM

3

广州广钢气体能源股份有限公司

展位号:3T20号

 

 

广州广钢气体能源股份有限公司是国内领先的电子大宗气体综合服务商,是国务院“科改示范企业”及广州市国资委重点混合所有制改革项目企业,系广州工业投资控股集团有限公司子公司。公司的主营业务是研发、生产和销售以电子大宗气体为核心的工业气体。公司打造了全方位、自主可控的气体供应体系,专业和能力涵盖从气体制备装置的设计到投产运行、气体储运、数字化运营、气体应用解决方案等全部环节,为客户提供现场制气、零售供气等综合服务。

公司拥有齐全的产品线,包括电子级超高纯氮气(N2)、氦气(He)、氧气(O2)、氢气(H2)、氩气(Ar)、二氧化碳(CO2)等气体品种,广泛应用于集成电路制造、半导体显示、光纤通信等电子半导体领域以及能源化工、有色金属、机械制造等通用工业领域。公司凭借自主研发的核心技术以及多年的气体生产运营经验,形成了ppb级超高纯电子大宗气体的制备及稳定供应能力,实现了超高纯电子大宗气体供应的国产替代,实现了国内电子大宗气体技术的自主可控,成为国内集成电路制造、半导体显示行业龙头企业的重要供应商。

未来,公司将始终以客户需求和市场发展趋势为导向,以电子大宗气体为核心,不断加大研发投入和强化自主创新、扩大产品品类、提升气体品质和产能、持续提高气体供应的稳定可靠性,充分发挥综合性、平台型气体公司的优势,实现“广钢气智造中国芯,广钢气点亮中国屏”的战略发展目标,成为电子大宗气体的领军企业。

部分产品简介

1.电子大宗业务

电子大宗业务以“ 广钢气智造中国芯、广钢气点亮中国屏”为产业发展目标,为集成电路、芯片、液晶面板、电子制造、5G 产业等高新产业提供高端的PPB 级超高纯气体定制服务,为电子特气提供TGM服务。

2.稀有气体业务

广钢气体是国内氦气供应的领先者,是全球主要氦气气源的主要买家。公司在广州、武汉和上海建有氦气工厂,为核磁共振、TFT-LCD/OLED、半导体集成电路制造及光纤通信等行业提供优质产品和服务。武汉稀有气体精提工厂为国内外用户提供高纯氪气和氙气产品。

 

3.零售气体业务

广钢气体业务拥有广泛的工业和医疗客户群体,市场遍布全国,生产基地覆盖华南、华东和华中。旗下企业自主开发自动化重装系统、智能化钢瓶气体管理平台,助力国内瓶装气体转型升级.

4

湖南德智新材料有限公司

展位号:3T62号

湖南德智新材料有限公司是一家专注于半导体用SiC涂层、TaC涂层石墨耗材研发、生产和销售的国家级高新技术企业。公司拥有先进自主的装备技术和一支高度专业的技术研发团队,具备石墨纯化、精密加工、精密检测、CVD涂层等完整的生产链,在SiC涂层石墨工件设计、加工及CVD工艺等方面具有核心专利技术和竞争优势。目前,德智新材已开发碳化硅外延组件、氮化镓外延组件、大硅片外延组件、蚀刻环、晶舟、离子注入组件等一系列半导体用SiC涂层石墨耗材产品。德智新材将持续投入和优化研发布局,不断提高产品核心竞争力,持续提供高品质产品,为客户创造更大价值。

部分产品简介

5

AIXTRON

展位号:1T43号

 

AIXTRON爱思强是半导体产业领先的沉积设备供应商。公司成立于1983年,总部设在德国黑措根拉特(靠近亚琛),并在亚洲、美国及欧洲设有子公司及销售办事处。爱思强的技术解决方案被全世界广泛的客户所使用,以制造先进的电子和光电子应用元件,这些元件乃基于化合物、硅或有机半导体材料。该元件被广泛用于创新应用、技术及行业,其中包括LED应用、显示技术、数据存储、数据传输、能源管理和转化、通讯、信号灯和照明技术以及其他尖端技术。

请浏览我们的网站www.aixtron.com,了解AIXTRON爱思强 (法兰克福证券交易所:AIXA,国际证券号码:DE000A0WMPJ6) 的更多信息。

部分产品简介

G10-SiC

•150 mm and 200 mm – dual wafer size capable – safeguard your investment into the future

在6英寸和8英寸两种衬底规格间灵活切换——有效保障您的投资赢在现在和未来

• Highest wafer output / m2 in the market

市场上单位面积洁净间最高的wafer产量

• Lowest cost / wafer in the market

市场上最低的单片外延成本

• Excellent run-to-run process performance

连续生产保持卓越的工艺稳定性

• Highly uniform, low defect SiC epitaxy processes for maximum chip yield

优异的厚度和掺杂均匀性、行业领先的缺陷控制以获得最高的芯片良率

• Efficient SiC substrate Basal Plane Dislocation (BPD) conversion

高效的基面位错(BPD)转换降低了衬底BPD密度对外延层的影响

• Single wafer performance in batch configuration

兼顾单片性能和多片机成本的综合量产方案

• Best in class productivity

同类最优秀的产能

• Best in class epi cost

同类最佳的外延成本控制

6

深圳中机新材料有限公司

展位号:3T02号

 

中机新材专注于针对硬脆材料及先进制造所需的高性能研磨抛光材料的技术研发、生产及销售的高新技术企业。目前已有近百项专利,并于2022年荣获中国创新创业大赛全国赛新材料组优秀企业奖。尤其在第三代半导体SiC晶圆研磨抛光应用领域,公司取得多项关键性技术突破,并持续满足客户的高质量和稳定性的供应服务。

部分产品简介

聚晶钻石液体抛光液

MMP-153019

·聚晶颗粒成直径在30?m左右的球形,团聚颗粒耐磨抗压能力最强。

·聚晶颗粒表面金刚石裸露在外,金刚石棱角裸露在外,切削力最强。

·聚晶颗粒在研磨过程中逐层剥离,切削力保持稳定。

聚晶钻石液体抛光液

MMP-050519

氧化铝液体抛光液

·抛光液是以微米及纳米材料的系列抛光液。该系列产品具有悬浮性好、粒度均匀,抛光效率高等特点。

抛光研磨垫

·常用于光学元件、晶体及金属和玻璃材料的终道抛光,也可用来抛光特殊材料 ,诸如硅、锗、硒化锌、砷化镓的后道抛光。

7

费勉仪器科技(上海)有限公司

展位号:A113号

 

费勉仪器创立于2012年,是先进电子材料研发、制备与量测的高端仪器设备提供商。致力于利用底层科学原理,为用户提供新技术、新工艺、新材料等领域的先进仪器设备,并成为创新解决方案的领导者。公司拥有健全、稳定的技术团队和管理团队,在学术界及工业领域都有深入而广泛的合作。已荣获上海市高新技术企业、上海市专精特新企业、上海市科技小巨人培育企业等多项荣誉。

部分产品简介

 

MBE800-Cluster

·准生产型MBE系统,生产效率显著提高;

·配备原位监测系统,实时监控生长状态;

·操作简单,便于维护;

·可靠性好,兼容性高;

  

MBE1000-Cluster

·生产型MBE系统,经济高效产量高;

·配备原位监测系统,实时监控生长状态;

·配备大容量蒸发源,延长系统运行周期;

系统可靠性好,稳定性高,节约成本,满足Semi S2要求;

 

HLFP-800plus

·满足多种巴条腔面处理和钝化工艺;

·配备原位监测系统,实时监控生长状态;

·圆形中央传输腔(Cluster Tool),提高产能;

·系统操作简单,运行可靠,满足Semi S2要求; 

8

张家港安储科技有限公司

展位号:2T35号

张家港安储科技有限公司是由在国际知名电子材料企业多年研发和生产经验的博士和专业人才所创立,专注于瞄准世界先进水平的先进电子材料研发、生产和销售。公司已经获得姑苏领军和张家港重点领军创业企业等荣誉、2023年获评江苏省民营科技企业称号并通过江苏省高新技术企业认定。公司主营产品:配方型功能电子化学品(主要有抛光液、研磨液、清洗液等)以及电子特气安全存储负压钢瓶所需的吸附材料。产品覆盖130到5纳米制程,适用于铜,钴,钨以及氧化硅,硅衬底以及碳化硅衬底表面。公司拥有核心技术,产品现已经申请发明专利8项、授权1项,实用新型12项、授权10项,PCT3项。公司已经获得ISO9001质量管理体系,ISO14001环境管理体系、 ISO45001职业健康管理体系认证。

部分产品简介

 

1、碳化硅衬底抛光清洗方案

①碳化硅衬底抛光液

碳化硅衬底由于硬度高,脆性大等特点,给抛光带来了极大的难度。安储科技ACTL-WS系列抛光液是一种高效的碳化硅衬底表面抛光产品,在具有较高的材料去除率的同时可获得低表面粗糙度,低缺陷的晶圆表面。而且抛光液可以循环使用, 降低了客户的使用成本。 

②碳化硅衬底抛光后晶圆清洗液

传统的碳化硅晶圆抛光后清洗一般都采用RCA工艺清洗,清洗流程长,工艺要求高。安储科技WK系列清洗液是专为碳化硅CMP抛光后有效清洗晶圆表面而设计的配方类清洗液,使用一步清洗,缩减了清洗工艺,清洗效果好,能有效的去除晶圆表面有机物以及颗粒等污染物。

  

③碳化硅衬底抛光后机台抛光垫清洗液

碳化硅衬底抛光液因使用高锰酸钾等氧化剂,对机台以及抛光垫会有一定腐蚀性, 安储科技开发的PK系列研磨后机台研磨垫清洗液可以有效的清洗抛光后残留物,清洗性能优异,清洗时间短,并可稀释使用,降低客户成本。

2、抛光后清洗液PCMP

半导体制程中化学机械抛光(CMP)后表面易产生研磨粒子,有机物,金属离子等缺陷。需要通过特殊的功能性化学清洗减少缺陷,提高良率,这是芯片生产中必须的步骤。

安储科技开发了系列PCMP抛光后清洗, 产品覆盖130nm至5nm制程, 适用于不同材料抛光后的清洗, 比如铜, 钴, 钨以及氧化硅表面等。

 

 

3、铜蚀刻液

安储科技开发的铜蚀刻液不含氟离子,环保安全,可精确控制对铜的蚀刻速率以及刻蚀角度,没有倒角,并且无残渣残留,产品的Bath life长,在较高铜离子浓度下仍能保持优异的蚀刻性能。 

 

4、光刻胶剥离液PR Stripper

半导体芯片,LCD, LED, 平板显示中用于形成特定图案的光阻剂必须完全清除干净同时对其他接触材料没有损伤。以有机溶剂为主的剥离液在半导体中长期使用。对其他接触材料基本没有损伤, 但对于较厚的光阻清除效果不是很理想。由于半导体技术和光阻材料的发展,目前商用的配方型含有机溶剂的剥离液的清除效果有待提高并且价格较高。

安储科技高效低成本的配方型光阻剥离液能够有效的清除各种光刻胶,同时不蚀刻或者侵蚀其他暴露的材料,不仅仅用于先进半导体芯片中而且也用于LCD, LED, 平板显示制程中。

        

5、电子特气负压存储钢瓶

安储科技开发的电子特气负压存储钢瓶内装多孔材料,具有高比表面积,对磷烷(PH3)和砷烷(AsH3)三氟化硼(BF3),四氟化锗(GeF4)等电子特气有着很高的吸附能力,储存稳定安全,不会影响气体纯度,释放量高。可以用在半导体离子注入等设备工艺。

6、客制化服务

安储科技可以为客户定制开发特殊应用抛光液以及清洗液,蚀刻液,剥离液等配方类功能电子化学品。安储科技硬件设施:

9

河南亦磊自动化科技有限公司

展位号:1T35号

  

河南亦磊自动化科技有限公司,成立于2018年是一家集科研、开发、生产、销售、服务与一体的现代化企业。公司始终专注于开发研制新能源类领域,为客户提供专业高端的自动化、智能化、信息化的系统集成服务。以先进技术力量为基础,最终为客户提供性能稳定、高柔性、高效率、适应多品种批量生产的自动化制造装备及高端检测设备。

部分产品简介

10

深圳中科飞测科技股份有限公司

展位号:3T02号

深圳中科飞测科技股份有限公司成立于2014年,是一家国内领先的高端半导体质量控制设备公司,现有员工900余人,总部及生产基地位于深圳,同时在北京、上海、广州、苏州、厦门、武汉等地均设有分支机构。质量控制设备是集成电路生产过程中的核心设备之一,是保证芯片生产良品率的关键。中科飞测依托多年在光学检测技术、大数据检测算法和自动化控制软件等领域的深耕积累和自主创新,研发了一系列检测和量测设备,目前已广泛应用于集成电路前道制程及先进封装知名企业,打破了在质量控制设备领域国际设备厂商对国内市场的长期垄断局面。与此同时,中科飞测积极承担了多个国家级、省级、市级重点专项研发任务,助力国内集成电路产业领域关键产品和技术的攻关与突破。中科飞测是国内半导体质量控制设备行业领军企业之一,2021年荣获中国半导体投资联盟颁发的中国IC风云榜“年度新锐公司奖”,量测和检测设备分别在2020年和2021年获得中国集成电路创新联盟颁发的“IC 创新奖”技术创新奖。 

部分产品简介

值此之际,我们诚邀业界同仁共聚本届盛会,

莅临展位现场参观交流、洽谈合作。

点击更多信息:

▶2024九峰山论坛大会抢先看!国内外院士嘉宾团领衔 超强阵容公布

▶六大领域全产业链覆盖,打通化合物半导体产业链的“生命通道”

▶平行论坛1:化合物半导体关键材料

▶平行论坛2:化合物半导体核心装备

▶平行论坛3:EDA工具与生态链

▶平行论坛7:先进半导体检测技术与标准

▶平行论坛8:化合物半导体产业发展投资论坛

▶CSE展商名单及展会看点揭晓!

▶3大国际顶级企业中国首秀,全球龙头企业集体亮相

▶CSE国际化合物半导体产业博览会展品提前看Ⅰ

▶CSE国际化合物半导体产业博览会展品提前看Ⅱ

▶CSE国际化合物半导体产业博览会展品提前看Ⅲ

▶CSE国际化合物半导体产业博览会展品提前看Ⅳ

▶CSE国际化合物半导体产业博览会展品提前看Ⅴ

▶CSE国际化合物半导体产业博览会展品提前看Ⅵ

▶CSE国际化合物半导体产业博览会展品提前看Ⅶ

▶CSE国际化合物半导体产业博览会展品提前看Ⅷ

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