前言
日本光学巨头 Nikon 预计 2025 财年要亏到 850 亿日元（约合人民币 36.66 多亿元），直接创下自 1917 年成立以来最差纪录。
过去半年，Nikon 只卖出了 9 台成熟制程的老款光刻机，可以说曾经和 Intel 深度绑定、还参与制定行业标准的设备大厂，现在在先进制程这块基本没什么竞争力了。
详细介绍
对比来看，ASML 在 2025 年直接卖了 327 台设备，其中高端 EUV 光刻机就有 48 台，几乎把全球高端市场给垄断了。
错过浸没式技术，还过度依赖单一客户
Nikon 的下滑不是突然发生的，关键转折点可以追溯到 2002 年。
当时 TSMC 前高管林本坚提出了浸没式光刻的思路，用水的折射率来缩短光波波长。
而当时还在夹缝中求生的 ASML，反而选择全力押注这个技术。
到了 2004 年，直接和 TSMC 做出了全球第一台浸没式光刻机，一下子把局势反转，2010 年之后市占率更是冲到 70% 以上。
另外一个问题是，Nikon 过度依赖 Intel 这一家大客户。等到 Intel 在 2024 年因为亏损大幅砍资本支出的时候，订单直接跟着崩。
再叠加美国出口管制的影响，Nikon 还失去了曾经占比超过四成的亚洲市场，结果 2025 年 9 月只能关闭已经运营了 58 年的横滨工厂，财务压力直接拉满。
EUV 路线受挫，Canon 走出另一条路
在浸没式失败之后，Nikon 想靠 EUV（极紫外）技术翻盘。他们联合日本政府和本土企业，坚持核心部件全部自研，走垂直整合路线。
但 EUV 本身难度极高，砸了超过 1000 亿日元，到 2018 年也只做出了没法商用的原型机。
反观 ASML，走的是另一条路，直接绑定 TSMC、Intel、Samsung 这些大客户，同时联合全球供应链，一步步建立起几乎没有替代的技术壁垒。
眼看 ASML 坐稳第一，另一家日本厂商 Canon 选择了另一种打法。Canon 主攻成熟制程，同时投入成本只有 EUV 十分之一的纳米压印（NIL）技术。
半导体设备规则已经变了
Nikon 的下滑其实说明了一点：面对颠覆性技术，以前的成功经验反而可能变成负担。
日本企业一直强调的“全自研”，在现在这种需要全球协作的产业环境下，反而可能拖慢创新速度。
现在 ASML 也开始往先进封装设备扩展，想把芯片制造前后流程都打通。这也意味着，未来半导体设备竞争不只是单点技术，而是整套系统的竞争。
在这种拼资金、拼技术的淘汰赛里，只有愿意开放合作、持续变革的公司，才有机会走到最后。
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