返回
仪器仪表
【08】半导体设备（六）：清洗设备
2025-11-09 21:36
【08】半导体设备（六）：清洗设备
清洗的主要目的是去除晶圆制造中各工艺步骤中可能存在的杂质，避免杂质影响芯片良率和芯片产品性能，根据清洗介质不同，半导体清洗技术主要分为湿法清洗和干法清洗。全球半导体清洗设备市场高度集中，主要是DNS（迪恩士）、TEL（东京电子）、LAM（泛林半导体）与SEMES等，中国大陆能提供半导体清洗设备的企业主要包括：盛美半导体、北方华创、芯源微及至纯科技等……
打赏
发表评论
0评
