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化工塑胶
rie icp 之后去胶
2025-11-02 19:29
rie icp 之后去胶
rie icp刻蚀氧化铪，用s1805光刻胶作为mask layer。刻蚀功率150w,时间15s左右。之后如何优雅的干净的除去光刻胶。
目前采用的方法，nmp80度，浸泡一个小时。发现还会有残胶。40kHz超声底电极震掉。延长加热时间，胶也去不掉，就是那种摇摇欲坠的感觉。
请问大家有什么好方法吗
#微纳加工
#光刻
#刻蚀
#研究生
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