宝子们～今天来康康半导体光刻后处理的 “清洁小能手”——CANON Surpass 320 二手等离子去胶机呀✨ 它可是给晶圆 “卸妆” 的专业级选手呢！
这款设备的去胶能力超给力，等离子功率在 50-500W 可调，像个精准的 “橡皮擦”? 去胶速率最快能到 1μm/min，顽固的光刻胶也能快速清除，还不损伤晶圆表面的精细电路，温柔又高效～
处理尺寸超实用，支持最大 8 英寸晶圆，腔体内等离子均匀性达 ±2%，整片晶圆去胶效果一模一样，边缘和中心同样干净? 兼容光刻胶、聚合物残留等多种去除场景，不管是正胶还是负胶都能轻松拿捏。
操作也很贴心，自带触控屏和预设程序，一键启动就能自动完成去胶流程，新手也能秒变熟手? 虽然是二手款，但等离子系统依旧稳定，特别适合中小晶圆厂、研发实验室的光刻后处理～ 用它给晶圆 “清洁”，又快又干净！有没有用过的小伙伴呀，来聊聊它最让你省心的设计呀?
#等离子去胶机
这款设备的去胶能力超给力，等离子功率在 50-500W 可调，像个精准的 “橡皮擦”? 去胶速率最快能到 1μm/min，顽固的光刻胶也能快速清除，还不损伤晶圆表面的精细电路，温柔又高效～
处理尺寸超实用，支持最大 8 英寸晶圆，腔体内等离子均匀性达 ±2%，整片晶圆去胶效果一模一样，边缘和中心同样干净? 兼容光刻胶、聚合物残留等多种去除场景，不管是正胶还是负胶都能轻松拿捏。
操作也很贴心，自带触控屏和预设程序，一键启动就能自动完成去胶流程，新手也能秒变熟手? 虽然是二手款，但等离子系统依旧稳定，特别适合中小晶圆厂、研发实验室的光刻后处理～ 用它给晶圆 “清洁”，又快又干净！有没有用过的小伙伴呀，来聊聊它最让你省心的设计呀?
#等离子去胶机