✨刻蚀界的 “介质精细手” 来啦！STS RIE 反应离子刻蚀机，可是 6/8 英寸晶圆的成熟制程好搭档?，专攻 SiO₂、SiN、光刻胶等介质材料刻蚀，适配 MEMS 传感器、功率半导体钝化层、射频器件互连孔等场景，精准度拉满～
⚙️核心参数超扎实：极限真空≤5×10⁻⁶ Pa（锁死洁净刻蚀环境），6 英寸晶圆刻蚀均匀性≤±3%，同一批次晶圆 “雕刻” 整齐度超赞?！刻蚀选择比超给力 —— 硅对 SiO₂≥40:1、对光刻胶≥15:1，轻松实现 “只刻目标层，不伤其他区”；ICP+RIE 双模设计，刻蚀速率可在 0.1-5μm/min 灵活调节，兼顾效率与精细度。
?技术亮点超贴心：搭载 OES 光学终点检测系统，像 “智能眼睛” 实时捕捉刻蚀终点，避免过蚀风险；多路气体精准配比（SF₆、O₂等），支持不同介质的定制化刻蚀工艺；工件台温控稳定（±1℃），减少温度波动导致的刻蚀偏差⚡。
即便二手，经专业翻新后真空泵、射频电源等关键部件全检测，还有完善备件支持?，如今在车规 MEMS、工业传感器领域持续发光，研发 / 量产都靠谱，妥妥的介质刻蚀 “实干派”！?
#刻蚀机 #二手刻蚀机 #半导体设备 #二手设备 #芯片
⚙️核心参数超扎实：极限真空≤5×10⁻⁶ Pa（锁死洁净刻蚀环境），6 英寸晶圆刻蚀均匀性≤±3%，同一批次晶圆 “雕刻” 整齐度超赞?！刻蚀选择比超给力 —— 硅对 SiO₂≥40:1、对光刻胶≥15:1，轻松实现 “只刻目标层，不伤其他区”；ICP+RIE 双模设计，刻蚀速率可在 0.1-5μm/min 灵活调节，兼顾效率与精细度。
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