钬 Ho：主要用于刻蚀设备的腔体涂层，能抵抗等离子体腐蚀，保护精密设备，保障良品率。
铒 Er：作为掺杂剂，用于优化晶体管性能，在光互联技术中，可放大光信号，提升数据传输效率。
铥 Tm：用于激光器系统，掺铥激光器有望将EUV光刻机的光源效率提升约10倍，是未来技术的关键。
铕 Eu：作为光敏剂，用于极紫外EUV光刻胶，能增强对EUV光的吸收，从而提高图案的分辨率，是决定芯片线宽精度的核心材料。
镱 Yb：掺镱激光器是高功率激光的重要光源，在半导体领域可用于某些特种玻璃，或作为掺杂剂改性材料。
镥 Lu：每台EUV光刻机需要约500克纯度极高的氧化镥抛光液，用于光学元件的精密抛光，用于开发高介电常数栅介质材料，解决晶体管微缩后的漏电问题。
BTW，除了10/15 湾芯展以外，11月AI及芯片相关展会如下：
11/05 中国国际半导体产业与应用博览会
11/06 西部全球芯片与半导体产业博览会
11/14 高交会亚洲半导体与集成电路产业展
11/14 高交会亚洲人工智能与机器人产业链展
11/14 高交会3E亚洲消费电子展
11/23 中国国际半导体博览会
11/25 国际集成电路展览会暨研讨会
11/28 中国软件大会
12/17 中国(上海)国际半导体展览会
#算力 #芯片 #半导体 #未来科技趋势 #科技前沿与未来 #行业研究 #人工智能发展 #
铒 Er：作为掺杂剂，用于优化晶体管性能，在光互联技术中，可放大光信号，提升数据传输效率。
铥 Tm：用于激光器系统，掺铥激光器有望将EUV光刻机的光源效率提升约10倍，是未来技术的关键。
铕 Eu：作为光敏剂，用于极紫外EUV光刻胶，能增强对EUV光的吸收，从而提高图案的分辨率，是决定芯片线宽精度的核心材料。
镱 Yb：掺镱激光器是高功率激光的重要光源，在半导体领域可用于某些特种玻璃，或作为掺杂剂改性材料。
镥 Lu：每台EUV光刻机需要约500克纯度极高的氧化镥抛光液，用于光学元件的精密抛光，用于开发高介电常数栅介质材料，解决晶体管微缩后的漏电问题。
BTW，除了10/15 湾芯展以外，11月AI及芯片相关展会如下：
11/05 中国国际半导体产业与应用博览会
11/06 西部全球芯片与半导体产业博览会
11/14 高交会亚洲半导体与集成电路产业展
11/14 高交会亚洲人工智能与机器人产业链展
11/14 高交会3E亚洲消费电子展
11/23 中国国际半导体博览会
11/25 国际集成电路展览会暨研讨会
11/28 中国软件大会
12/17 中国(上海)国际半导体展览会
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