作为半导体高端光刻领域的明星设备，二手 NIKON NSR 2205i12D 光刻机依旧实力能打?！传承尼康光学技术精髓，经规范维护后性能稳定在线，是芯片制造的靠谱核心装备。
核心参数硬核拉满?：搭载 365nm i-line 曝光波长，精准适配 8 英寸（200mm）晶圆，对准精度高达 ±0.15μm，分辨率低至 0.35μm，图形转移精细度无可挑剔；曝光场尺寸≥26×33mm，支持高吞吐量曝光模式，搭配均匀化照明系统，兼顾加工效率与图形一致性。
适配场景超广泛?：可广泛应用于逻辑芯片、存储芯片、功率器件、MEMS 等产品的光刻制程，兼容多种光刻胶体系。设备操作界面智能化，支持自动化流程适配，机械结构刚性强、稳定性佳，长期运行精度衰减小，新手也能快速掌握核心操作。
无论是中高端芯片研发，还是量产线光刻环节，它都能稳稳胜任?！二手状态下依旧保持高端光刻水准，是半导体制造领域的优质之选～
#光刻机 #二手光刻机
核心参数硬核拉满?：搭载 365nm i-line 曝光波长，精准适配 8 英寸（200mm）晶圆，对准精度高达 ±0.15μm，分辨率低至 0.35μm，图形转移精细度无可挑剔；曝光场尺寸≥26×33mm，支持高吞吐量曝光模式，搭配均匀化照明系统，兼顾加工效率与图形一致性。
适配场景超广泛?：可广泛应用于逻辑芯片、存储芯片、功率器件、MEMS 等产品的光刻制程，兼容多种光刻胶体系。设备操作界面智能化，支持自动化流程适配，机械结构刚性强、稳定性佳，长期运行精度衰减小，新手也能快速掌握核心操作。
无论是中高端芯片研发，还是量产线光刻环节，它都能稳稳胜任?！二手状态下依旧保持高端光刻水准，是半导体制造领域的优质之选～
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