宝子们～二手 DNS DUOI 涂胶显影机可是光刻环节的 “精细小能手” 哦✨
它最擅长给 300mm（12 英寸）晶圆做涂胶和显影，这尺寸在现在芯片生产里超主流！涂胶均匀性超绝 —— 光刻胶厚度均匀性能控制在 ±1% 以内，就像给晶圆 “涂面膜” 一样薄厚一致，连边缘都不会积胶，连纳米级的超薄胶层（100nm 以下）都能涂得稳稳的。
显影精度也很能打，线宽控制误差能压到 ±2nm，光刻后的图案显影完边缘超清晰，不会有模糊或残留。效率也在线，每小时能处理 25-30 片晶圆，还自带智能温控（晶圆温度稳定在 ±0.1℃），涂胶显影时更不容易出偏差。
它的胶量控制系统超精准，能根据晶圆尺寸自动调整用量，减少浪费。而且兼容性很棒，不管是正性光刻胶还是负性光刻胶都能适配，连一些特殊的高粘度光刻胶也能 hold 住。二手设备只要保养到位，工艺稳定性依旧很能打，很多中小厂扩产都爱选它，毕竟能兼顾精度和效率，融入产线也快，实用性拉满呀?
#芯片 #半导体设备 #二手设备 #涂胶显影机
它最擅长给 300mm（12 英寸）晶圆做涂胶和显影，这尺寸在现在芯片生产里超主流！涂胶均匀性超绝 —— 光刻胶厚度均匀性能控制在 ±1% 以内，就像给晶圆 “涂面膜” 一样薄厚一致，连边缘都不会积胶，连纳米级的超薄胶层（100nm 以下）都能涂得稳稳的。
显影精度也很能打，线宽控制误差能压到 ±2nm，光刻后的图案显影完边缘超清晰，不会有模糊或残留。效率也在线，每小时能处理 25-30 片晶圆，还自带智能温控（晶圆温度稳定在 ±0.1℃），涂胶显影时更不容易出偏差。
它的胶量控制系统超精准，能根据晶圆尺寸自动调整用量，减少浪费。而且兼容性很棒，不管是正性光刻胶还是负性光刻胶都能适配，连一些特殊的高粘度光刻胶也能 hold 住。二手设备只要保养到位，工艺稳定性依旧很能打，很多中小厂扩产都爱选它，毕竟能兼顾精度和效率，融入产线也快，实用性拉满呀?
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