呀～ 二手的 TOK TCA3822 其实是超厉害的等离子去胶机哦～ 像给晶圆做 “深层清洁” 的小能手?
它专门处理 200mm 晶圆，用 13.56MHz 射频等离子体源产生能量，等离子体密度稳稳保持在 10¹⁰-10¹¹ cm⁻³，就像无数纳米小刷子，把光刻胶 “刷” 得干干净净✨ 去胶速度超快，每分钟能搞定 500-1000nm，比传统方法快好多呢～
均匀性也超赞！整片晶圆去胶误差≤2%（1σ），连边缘角落都清清爽爽，一点不马虎? 还能换 O₂、CF₄等不同气体，不管是正胶、负胶还是带金属残留的顽固胶，都能轻松搞定～
每小时能处理 40 + 片晶圆，全自动传输臂跑来跑去超勤快，二手状态下定位精度还能保持 ±0.2mm 以内，超靠谱? 在逻辑芯片、功率器件制造中超受欢迎，毕竟光刻胶清不干净，后面工序可就麻烦啦～
是不是没想到，给晶圆 “卸妆” 也需要这么精密的设备呀？?
#二手设备 #半导体设备 #芯片 #光刻机
它专门处理 200mm 晶圆，用 13.56MHz 射频等离子体源产生能量，等离子体密度稳稳保持在 10¹⁰-10¹¹ cm⁻³，就像无数纳米小刷子，把光刻胶 “刷” 得干干净净✨ 去胶速度超快，每分钟能搞定 500-1000nm，比传统方法快好多呢～
均匀性也超赞！整片晶圆去胶误差≤2%（1σ），连边缘角落都清清爽爽，一点不马虎? 还能换 O₂、CF₄等不同气体，不管是正胶、负胶还是带金属残留的顽固胶，都能轻松搞定～
每小时能处理 40 + 片晶圆，全自动传输臂跑来跑去超勤快，二手状态下定位精度还能保持 ±0.2mm 以内，超靠谱? 在逻辑芯片、功率器件制造中超受欢迎，毕竟光刻胶清不干净，后面工序可就麻烦啦～
是不是没想到，给晶圆 “卸妆” 也需要这么精密的设备呀？?
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