一、技术突破
华东理工大学与美国约翰霍普金斯大学合作团队成功开发新型光刻胶制备方法：
采用间歇性旋涂化学液相沉积技术
实现非晶态沸石咪唑酯骨架(aZIF)薄膜的可控制备
薄膜沉积速率和厚度实现精确控制
已通过电子束光刻和极紫外光刻验证
二、市场现状
市场规模：2023年：109.2亿元、2024年：114亿元、2025年：123亿元（预计）
竞争格局：
国际巨头垄断：东京应化、信越化学、JSR、富士胶片
国产替代加速：KrF等中高端产品替代进程加快
具体光刻胶上市公司数据和业务情况详见图2
三、上市公司动态
上海新阳（300236）KrF光刻胶已批量销售 ArF浸没式光刻胶获订单 12英寸晶圆用ArF光刻胶通过中芯国际验证
南大光电（300346）ArF光刻胶在长江存储批量供货
聚光科技（300203）成功研发新一代大气VOCs在线监测系统、检测灵敏度达到0.1ppb级别、较上一代产品检测限提升50%
联合化学（301209）投资投影式曝光机研发企业卓光芮
东材科技（601208）合资设立成都东凯芯，专注光刻胶原料研发 目前处于试生产阶段
鼎龙股份（300054）无氟光敏聚酰亚胺等新产品持续推进 高端晶圆光刻胶业务快速推进
20家相关公司年内平均涨幅超60%
5家公司25-26年净利增长超40%
8家公司年内跑输半导体行业指数（50.51%）
半导体领域对光刻胶要求持续提升，高分辨率、高灵敏度技术成为重点，下游需求扩大，国产替代空间广阔，政策支持力度加大
以上数据截至2025年9月，来源于上市公司公告及公开市场报告。
以上为知识分享，不作为投资建议。
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华东理工大学与美国约翰霍普金斯大学合作团队成功开发新型光刻胶制备方法：
采用间歇性旋涂化学液相沉积技术
实现非晶态沸石咪唑酯骨架(aZIF)薄膜的可控制备
薄膜沉积速率和厚度实现精确控制
已通过电子束光刻和极紫外光刻验证
二、市场现状
市场规模：2023年：109.2亿元、2024年：114亿元、2025年：123亿元（预计）
竞争格局：
国际巨头垄断：东京应化、信越化学、JSR、富士胶片
国产替代加速：KrF等中高端产品替代进程加快
具体光刻胶上市公司数据和业务情况详见图2
三、上市公司动态
上海新阳（300236）KrF光刻胶已批量销售 ArF浸没式光刻胶获订单 12英寸晶圆用ArF光刻胶通过中芯国际验证
南大光电（300346）ArF光刻胶在长江存储批量供货
聚光科技（300203）成功研发新一代大气VOCs在线监测系统、检测灵敏度达到0.1ppb级别、较上一代产品检测限提升50%
联合化学（301209）投资投影式曝光机研发企业卓光芮
东材科技（601208）合资设立成都东凯芯，专注光刻胶原料研发 目前处于试生产阶段
鼎龙股份（300054）无氟光敏聚酰亚胺等新产品持续推进 高端晶圆光刻胶业务快速推进
20家相关公司年内平均涨幅超60%
5家公司25-26年净利增长超40%
8家公司年内跑输半导体行业指数（50.51%）
半导体领域对光刻胶要求持续提升，高分辨率、高灵敏度技术成为重点，下游需求扩大，国产替代空间广阔，政策支持力度加大
以上数据截至2025年9月，来源于上市公司公告及公开市场报告。
以上为知识分享，不作为投资建议。
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