这一篇真的写的肝脑涂地！希望对大家有用！记着收藏哦！[扯脸H][扯脸H]
真空度才是镀膜技术的核心命脉，不然搞那么笨重贵重的钢疙瘩干啥，膜层质量不过关，你第一要考虑的就是真空度！
真空度的概念——
真空度描述气体分子稀薄程度，真空度越高，气体越稀薄，压强也就越低。单位国内最常用为帕斯卡（Pa），进口设备喜欢用Torr，也有人用Bar。可以记住以下核心关系：1atm≈760Torr≈1013mbar≈101325Pa。
一般真空获得过程：
机械泵（抽至5 Pa）→ 罗茨泵（抽至10⁻² Pa）→ 分子泵（抽至10⁻⁵ Pa）
当然还有爪泵、螺杆泵、油扩散泵、冷泵等类型，泵系统是需要完整讲很多讲了，下面是一个典型卷绕镀膜机的真空获得的配置图，可以参考学习（详见图片中）。
镀膜为什么需要高真空？
真空度不足的直接后果——膜层失效：
分子自由程延长
•常压下气体分子碰撞频繁（平均自由程≈0.1μm），多次碰撞能量消耗
•当真空度达10-4 Pa时，分子自由程增至数十米，粒子无碰撞飞向基材
排除杂质污染
•空气中氧气、水蒸气会氧化镀膜的材料（如铝镀层发黑）
•高真空环境将杂质气体浓度降至ppm级，保证膜层纯度＞99.9%
控制沉积能量
•溅射真空度影响等离子体密度，决定轰击靶材的离子能量，进而调控膜层附着力与致密度
真空度不足的五大灾难性缺陷
若真空度不达标，膜层将出现以下问题：
变色发朦：残余氧气导致金属氧化（如铝镀层变暗）；
附着力差：基材表面吸附气体层阻隔膜料结合，膜层易剥落；
疏松多孔：气体碰撞使沉积粒子动能衰减，无法横向迁移；
杂质掺杂：活性气体混入膜层形成氮化物、碳化物，导致硬度不足或电阻率异常；
厚度不均：低真空下粒子散射严重，复杂工件边缘/凹槽处覆盖率不足。
所以记住！如果你发现产品质量有异常，第一时间就去查真空度记录，尽量排除真空对于膜层质量的影响，这才是工艺工程师该有的第一反应！
总之，真空度是真空技术中一个核心的物理量，其单位换算帮助我们在不同场景下准确描述真空状态，而了解真空镀膜对真空度的要求，能让我们更好地理解这一技术的原理和质量控制要点。
[斜眼R]真空镀膜工艺中，是否泵抽真空速度越快越好，还有本底真空度越高越好？欢迎思考作答。#真空镀膜 #真空 #磁控溅射 #真空镀膜技术前沿 #膜层 #材料 #半导体 #芯片 #新能源
真空度才是镀膜技术的核心命脉，不然搞那么笨重贵重的钢疙瘩干啥，膜层质量不过关，你第一要考虑的就是真空度！
真空度的概念——
真空度描述气体分子稀薄程度，真空度越高，气体越稀薄，压强也就越低。单位国内最常用为帕斯卡（Pa），进口设备喜欢用Torr，也有人用Bar。可以记住以下核心关系：1atm≈760Torr≈1013mbar≈101325Pa。
一般真空获得过程：
机械泵（抽至5 Pa）→ 罗茨泵（抽至10⁻² Pa）→ 分子泵（抽至10⁻⁵ Pa）
当然还有爪泵、螺杆泵、油扩散泵、冷泵等类型，泵系统是需要完整讲很多讲了，下面是一个典型卷绕镀膜机的真空获得的配置图，可以参考学习（详见图片中）。
镀膜为什么需要高真空？
真空度不足的直接后果——膜层失效：
分子自由程延长
•常压下气体分子碰撞频繁（平均自由程≈0.1μm），多次碰撞能量消耗
•当真空度达10-4 Pa时，分子自由程增至数十米，粒子无碰撞飞向基材
排除杂质污染
•空气中氧气、水蒸气会氧化镀膜的材料（如铝镀层发黑）
•高真空环境将杂质气体浓度降至ppm级，保证膜层纯度＞99.9%
控制沉积能量
•溅射真空度影响等离子体密度，决定轰击靶材的离子能量，进而调控膜层附着力与致密度
真空度不足的五大灾难性缺陷
若真空度不达标，膜层将出现以下问题：
变色发朦：残余氧气导致金属氧化（如铝镀层变暗）；
附着力差：基材表面吸附气体层阻隔膜料结合，膜层易剥落；
疏松多孔：气体碰撞使沉积粒子动能衰减，无法横向迁移；
杂质掺杂：活性气体混入膜层形成氮化物、碳化物，导致硬度不足或电阻率异常；
厚度不均：低真空下粒子散射严重，复杂工件边缘/凹槽处覆盖率不足。
所以记住！如果你发现产品质量有异常，第一时间就去查真空度记录，尽量排除真空对于膜层质量的影响，这才是工艺工程师该有的第一反应！
总之，真空度是真空技术中一个核心的物理量，其单位换算帮助我们在不同场景下准确描述真空状态，而了解真空镀膜对真空度的要求，能让我们更好地理解这一技术的原理和质量控制要点。
[斜眼R]真空镀膜工艺中，是否泵抽真空速度越快越好，还有本底真空度越高越好？欢迎思考作答。#真空镀膜 #真空 #磁控溅射 #真空镀膜技术前沿 #膜层 #材料 #半导体 #芯片 #新能源