化工塑胶
光刻图案脱落,光刻求助
2025-11-01 04:49
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4寸晶圆,用的4620光刻胶,先用HMDS2000转旋涂40秒,光刻胶6000转,膜厚6微米,前烘100度6分钟,曝光完显影后发现部分光刻图形呈这种半圆形脱落,会是什么问题呢?
#光刻胶 #fab #半导体工艺
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